[發(fā)明專利]雙面消影氧化銦錫磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410184791.8
• 申請(qǐng)日: 2014-05-05
• 公開（公告）號(hào): CN104018131A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭愛云
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 紅安華州光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/08
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種導(dǎo)電膜生產(chǎn)線，尤其是一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠、操作方便、鍍膜效果好的雙面消影氧化銦錫磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線。

背景技術(shù)

目前，雙面消影觸摸屏的導(dǎo)電膜多為通過(guò)依次設(shè)置的進(jìn)口真空腔體、工藝腔體和出口真空腔體完成，功能單一，效率低下。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠、操作方便、效率高的雙面消影氧化銦錫磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線。

實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的雙面消影氧化銦錫磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，包括機(jī)架，所述機(jī)架上依次設(shè)置有進(jìn)口真空腔體、進(jìn)口緩沖真空腔體、進(jìn)口過(guò)渡腔體、工藝真空腔體、出口真空腔體、出口緩沖真空腔體和出口過(guò)渡腔體；

所述機(jī)架上、貫穿上述腔體設(shè)置有觸摸屏基片輸送帶；

所述工藝真空腔體為9個(gè)，所述每個(gè)工藝真空腔體都布置有2對(duì)陰極，所述9個(gè)工藝真空腔體可布置18對(duì)陽(yáng)極，所述18對(duì)陽(yáng)極中，含有18對(duì)Nb2Ox陽(yáng)極；或1到8對(duì)SiOx陽(yáng)極；或1到6對(duì)Ito陽(yáng)極；

所述進(jìn)口真空腔體內(nèi)配備有1到2組低真空抽氣系統(tǒng)；

所述進(jìn)口緩沖真空腔體和出口緩沖真空腔體內(nèi)配備1到2組高真空抽氣系統(tǒng)；

所述工藝真空腔體內(nèi)配備2到3組維持高真空抽氣系統(tǒng)。

本生產(chǎn)線結(jié)構(gòu)合理，功能先進(jìn)，工作效率高，有利于推廣使用。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的雙面消影氧化銦錫磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示，本發(fā)明所述的雙面消影氧化銦錫磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，包括機(jī)架8，所述機(jī)架8上依次設(shè)置有進(jìn)口真空腔體1、進(jìn)口緩沖真空腔體2、進(jìn)口過(guò)渡腔體3、工藝真空腔體4、出口真空腔體5、出口緩沖真空腔體6和出口過(guò)渡腔體7；

所述機(jī)架8上、貫穿上述腔體設(shè)置有觸摸屏基片輸送帶9；

所述工藝真空腔體4為9個(gè)，所述每個(gè)工藝真空腔體9都布置有2對(duì)陰極，所述9個(gè)工藝真空腔體9可布置18對(duì)陽(yáng)極，所述18對(duì)陽(yáng)極中，含有18對(duì)Nb2Ox陽(yáng)極；或1到8對(duì)SiOx陽(yáng)極；或1到6對(duì)Ito陽(yáng)極；

所述進(jìn)口真空腔體1內(nèi)配備有1到2組低真空抽氣系統(tǒng)；

所述進(jìn)口緩沖真空腔體2和出口緩沖真空腔體6內(nèi)配備1到2組高真空抽氣系統(tǒng)；

所述工藝真空腔體4內(nèi)配備2到3組維持高真空抽氣系統(tǒng)。

本生產(chǎn)線結(jié)構(gòu)合理，功能先進(jìn)，工作效率高，有利于推廣使用。

上面所述的實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本發(fā)明設(shè)計(jì)精神前提下，本領(lǐng)域普通工程技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本發(fā)明的權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍內(nèi)。