[發(fā)明專利]彩色濾光片的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410184693.4
• 申請(qǐng)日: 2014-05-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103984052B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐向陽(yáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/20
• 分類號(hào): G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/00
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)44300
• 代理人: 刁文魁,唐秀萍

1.一種彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟：

提供一基板；

在所述基板上形成黑矩陣層；

在形成有黑矩陣層的基板上，通過(guò)一掩膜形成至少一第一濾光圖案；

在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過(guò)所述掩膜形成至少一第二濾光圖案；以及

在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過(guò)所述掩膜形成至少一第三濾光圖案；其中

所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對(duì)應(yīng)的不同的透光光譜；

其中所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別經(jīng)過(guò)涂覆、真空干燥、去掉邊緣光阻、預(yù)烘烤、冷卻、紫外線曝光、顯影以及固化步驟以形成；

所述在形成有黑矩陣層的基板上，通過(guò)一掩膜形成至少一第一濾光圖案包括：

清洗設(shè)置有所述黑矩陣層的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光頻率落于所述掩膜的對(duì)應(yīng)于所述第一濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；

將涂覆有所述第一光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影，以形成第一濾光圖案；

所述在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過(guò)所述掩膜形成至少一第二濾光圖案包括：

清洗設(shè)置有所述黑矩陣層以及所述第一濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第二光阻材料，所述第二光阻材料的感光頻率落于所述掩膜的對(duì)應(yīng)于所述第二濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；

將涂覆有所述第二光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影，以形成第二濾光圖案；

所述在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過(guò)所述掩膜形成至少一第三濾光圖案包括：

清洗設(shè)置有所述黑矩陣層、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第三光阻材料，所述第三光阻材料的感光頻率落于所述掩膜的對(duì)應(yīng)于所述第三濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；

將涂覆有所述第三光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影，以形成第三濾光圖案。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩陣層包括：

將一黑色光阻材料涂覆在所述基板上；

利用紫外線曝光機(jī)，將一具有黑矩陣圖案的掩膜設(shè)置于所述黑色光阻材料上方，對(duì)所述黑色光阻材料進(jìn)行曝光；

利用顯影劑對(duì)所述黑色光阻材料進(jìn)行顯影蝕刻，以形成多個(gè)黑矩陣層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩陣層包括：

以蒸鍍或?yàn)R鍍方式于基板上形成鉻或鉻合金的薄膜；

將一黑色光阻材料涂覆在所述基板上；

利用紫外線曝光機(jī)，將一具有黑矩陣圖案的掩膜設(shè)置于所述黑色光阻材料上方，對(duì)所述黑色光阻材料進(jìn)行曝光；

利用顯影劑對(duì)所述黑色光阻材料進(jìn)行顯影蝕刻；

利用去除劑將所述黑色光阻材料去除，以形成多個(gè)黑矩陣層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案具有不同的顏色且直列并排在所述基板上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述方法還可包括：

在設(shè)置有所述黑矩陣層、第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的基板上，形成一保護(hù)層；

在所述保護(hù)層的上方形成一公用電極層；

在所述公用電極層上方形成一間隙層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1中任一項(xiàng)所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料為有機(jī)負(fù)型光阻。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別為紅色、綠色以及藍(lán)色濾光圖案。