[發(fā)明專利]包含一預(yù)涂層的固體電解電容器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410184682.6 | 申請日: | 2014-05-04 |
| 公開(公告)號: | CN104157461B | 公開(公告)日: | 2018-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | K·青木;H·登尾;J·辰野;K·稻澤 | 申請(專利權(quán))人: | AVX公司 |
| 主分類號: | H01G9/15 | 分類號: | H01G9/15;H01G9/025;H01G9/028 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 張海文 |
| 地址: | 美國南卡*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 包含 涂層 固體 電解電容器 | ||
1.一種固體電解電容器,包括:
一由導(dǎo)電粉末制成的陽極體,其中所述粉末的荷質(zhì)比為70000μF*V/g或更高;
一覆蓋在所述陽極體上的電介質(zhì);
一覆蓋在所述電介質(zhì)上的膠粘涂層,其中所述膠粘涂層包括一不連續(xù)的預(yù)涂層,并包含多個離散的氧化錳納米突起;以及
一覆蓋在所述電介質(zhì)上的固體電解質(zhì),所述固體電解質(zhì)包括一導(dǎo)電聚合物層;
其中至少一個所述離散的氧化錳納米突起嵌入到所述固體電解質(zhì)中;
其中所述納米突起的表面覆蓋度為0.1%至40%;
其中所述電容器的歸一化漏電流為0.2μA/μF*V或更低。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中所述導(dǎo)電粉末包括鉭,所述電介質(zhì)包括五氧化二鉭。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的固體電解電容器,其中所述粉末荷質(zhì)比為120000μF*V/g到250000μF*V/g。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中所述納米突起的平均尺寸為5nm至500nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中50%或更多的納米突起的平均尺寸為10nm至110nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中所述納米突起的表面覆蓋度為0.5%至30%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中,所述氧化錳是二氧化錳。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中所述導(dǎo)電聚合物層包括化學(xué)聚合的導(dǎo)電聚合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的固體電解電容器,其中所述導(dǎo)電聚合物是取代聚噻吩。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的固體電解電容器,其中所述取代聚噻吩是聚(3,4-乙烯基二氧噻吩)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中一碳層、銀層或者二者覆蓋所述固體電解質(zhì)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,進(jìn)一步包括一陽極端子和一陰極端子,其中陽極端子電連接到陽極,陰極端子電連接到固體電解質(zhì)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中所述電容器在100kHz頻率下測定的等效串聯(lián)電阻為300毫歐或更低。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固體電解電容器,其中所述電容器在100kHz頻率下測定的歸一化漏電流為0.1μA/μF*V或更低。
15.一種形成固體電解電容器的方法,該方法包括:
將包含陽極體和電介質(zhì)的陽極與包含氧化錳前體的溶液接觸,其中所述陽極體由荷質(zhì)比為70000μF*V/g或更高的導(dǎo)電粉末制成;
通過熱解將所述前體轉(zhuǎn)化形成不連續(xù)的層,其中包含許多離散的氧化錳納米突起;以及形成一導(dǎo)電聚合物層,其接觸所述納米突起和所述電介質(zhì);
其中一個或多個離散的氧化錳納米突起嵌入到所述導(dǎo)電聚合物層中;
其中所述納米突起的表面覆蓋度為0.1%至40%;
其中所述電容器的歸一化漏電流為0.2μA/μF*V或更低。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中所述氧化錳前體是硝酸錳。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,其中溶液中含有一表面活性劑,其含量為0.01wt.%至30wt.%。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法,進(jìn)一步包括,與包含氧化錳前體的溶液接觸前,使陽極接觸加濕氣氛。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于AVX公司,未經(jīng)AVX公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410184682.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





