[發明專利]一種透明光學元件表面質量的檢測裝置

有效

• 申請號: 201410182149.6
• 申請日: 2014-04-30
• 公開（公告）號: CN103926258A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發明（設計）人: 陳孟柵;林覺鑫;李超超;萬勇平
• 申請（專利權）人: 臺州振皓自動化科技有限公司
• 主分類號: G01N21/958
• 分類號: G01N21/958
• 代理公司: 臺州市方圓專利事務所 33107
• 代理人: 蔡正保;林米良

技術領域

本發明屬于光學元件檢測設備技術領域，尤其涉及一種透明光學元件表面質量的檢測裝置。

背景技術

透明光學材料是各類光學系統中非常重要的元件。常用的透明光學材料有各類玻璃，熔融石英，以及各種晶體材料。透明光學元件在很多光學系統里使用時，常常會在表面鍍上諸如增透膜或高反膜等一些薄膜層，有時也會與其他光學元件材料或者塑料支架緊密貼合，實現某些特定功能。以上這些應用都對相關光學材料的特性提出了很高要求，如材料表面要具有很高的光學平整度，沒有污染，表面及亞表面無超標缺陷等。而相關元件的生產加工要經過多道工序，在加工過程中不可避免的會產生各種污染和缺陷。這些污染和缺陷的尺度很多都在微米量級、亞微米甚至納米量級，普通肉眼檢測方法無法有效識別。研發快速、高靈敏度的污染和缺陷檢測方法因此非常必要。

常用的表面缺陷檢測方法有明場成像技術，即利用光束照明材料上的待檢測區域，由材料反射或透射的光束經過成像系統，這樣就獲得了的待檢測區域的圖像，通過分析圖象來識別缺陷。如專利(CN203069531U)公開了一種透明光學材料表面缺陷的檢測裝置，采用內全反射式的照明方法，即將照明光束引入到透明光學元件內部，并在透明光學元件內部的前、后表面之間進行多次全反射，對透明光學元件的前、后表面多個區域同時照明，利用表面缺陷所引起的散射光和折射光進行暗場成像來實現對表面缺陷的檢測。該檢測裝置利用內全反射式照明，實現對光能的重復利用，并且可以對多區域同時進行暗場成像檢測，特別是適用于大口徑的透明光學元件的表面及亞表面缺陷的高靈敏度檢測。

但上述檢測裝置也存在著缺陷，針對7mm以下的透明光學元件的表面檢測工作，上述的檢測方法就無法湊效，現有技術中也沒有公開任何一種能夠自動化雙面檢測透明光學元件的自動化設備，也沒有檢測粘貼在塑膠支架上的透明光學元件表面質量的設備，現在工藝是通過人工人眼檢測或是借助電子顯微鏡來完成，這導致對小尺寸光學元件的檢測效率低下。

發明內容

本發明針對現有的技術存在的上述問題，提供一種透明光學元件表面質量的檢測裝置，本發明所要解決的技術問題是：如何持續和快速的檢測透明光學元件的正面和反面的表面質量。

本發明的目的可通過下列技術方案來實現：

一種透明光學元件表面質量的檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置包括機架、托板和檢測轉盤，所述托板設置在機架上，且所述托板和機架之間設有能使托板沿X軸和Y軸移動的兩軸驅動機構，所述檢測轉盤固定在托板的上方且兩者沿該檢測轉盤的周向能夠相對轉動，所述托板上設有能夠驅動所述檢測轉盤轉動的旋轉機構，所述檢測轉盤上具有兩個對稱分布在該檢測轉盤旋轉中心兩側的檢測工位，每個檢測工位均能夠放置多個透明光學元件，每個檢測工位的上方均設有一個對應的檢測相機，其中一個檢測工位的上方設有對應的光源一，另一個檢測工位的下方設有對應的光源二，所述檢測相機、光源一和光源二均固定在所述機架上。