[發明專利]一種利用金屬鎂還原無水氯化鉻生產高純金屬鉻的方法有效
| 申請號： | 201410181712.8 | 申請日： | 2014-04-30 |
| 公開（公告）號： | CN103952574A | 公開（公告）日： | 2014-07-30 |
| 發明（設計）人： | 齊濤;李永利;張繪;曲景奎;余志輝;趙宏欣 | 申請（專利權）人： | 中國科學院過程工程研究所 |
| 主分類號： | C22B34/32 | 分類號： | C22B34/32;C22B5/04 |
| 代理公司： | 北京法思騰知識產權代理有限公司 11318 | 代理人： | 楊小蓉 |
| 地址： | 100190 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 金屬鎂 還原 無水 氯化 生產 高純 金屬 方法 | ||
1.一種利用金屬鎂還原無水氯化鉻生產高純金屬鉻的方法，包括以下步驟：?
(1)對無水氯化鉻進行升華冷凝后，得到純化的無水氯化鉻；?
(2)把步驟(1)得到的純化的無水氯化鉻熔入熔鹽，加入金屬鎂進行還原反應；或者不采用熔鹽介質，直接把金屬鎂與無水氯化鉻進行還原反應；?
(3)將步驟(2)得到的還原產物進行水洗過濾，得到水洗金屬鉻濾餅；?
(4)將步驟(3)得到的水洗金屬鉻濾餅進行酸洗過濾，所述酸洗pH在2～4之間，酸洗時間10～120分鐘，得到酸洗金屬鉻濾餅；?
(5)將步驟(4)得到的酸洗金屬鉻濾餅水洗至中性，干燥后得到高純金屬鉻產品。?
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(1)在干燥氯氣或惰性氣體流條件下進行升華。?
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(2)所述的熔鹽包括LiCl熔鹽、NaCl熔鹽、KCl熔鹽、MgCl熔鹽中的一種或多種。?
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(2)采用熔鹽介質，所述的無水氯化鉻占熔鹽質量的5％～30％。?
5.根據權利要求1或4所述的方法，其特征在于，步驟(2)金屬鎂的用量為還原全部無水氯化鉻理論所需用量的1.2～2倍。?
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(2)采用熔鹽介質，所述的還原反應反應溫度為400～850℃，反應時間為0.5～4小時。?
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(2)不采用熔鹽介質，所述還原反應溫度為700～850℃，反應時間為0.5～4小時。?
8.根據權利要求1、6或7所述的方法，其特征在于，所述還原反應過程中采用惰性氣體保護。?
9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(4)所述的金屬鉻酸洗除雜的過程中，酸洗次數為2～4次。?
10.根據權利要求1或9所述的方法，其特征在于，步驟(4)所述的金屬鉻酸洗除雜的過程中，每次酸洗的液固質量比為1:1～5:1。?
11.根據權利要求1或9所述的方法，其特征在于，步驟(4)所述的金屬鉻酸洗除雜的過程中，所用的酸為鹽酸或硫酸。?
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