[發明專利]制造光學構件的方法無效
| 申請號： | 201410181353.6 | 申請日： | 2014-04-30 |
| 公開（公告）號： | CN104130722A | 公開（公告）日： | 2014-11-05 |
| 發明（設計）人： | 野中崇弘;岸岡宏昭;形見普史 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | C09J7/02 | 分類號： | C09J7/02 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 楊海榮;穆德駿 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制造 光學 構件 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制造光學構件的方法，包括：
在片狀基材或平板狀基材的一個表面上形成印刷層；和
將選自熱熔壓敏膠粘劑和活性能量射線固化性壓敏膠粘劑中的一種以上壓敏膠粘劑涂布在所述片狀基材或平板狀基材的印刷層側的表面上，形成所述壓敏膠粘劑的壓敏膠粘劑層。
2.根據權利要求1的方法，其中所制造的光學構件的翹曲指數為0～0.5μm，所述翹曲指數定義如下：
翹曲指數：當將具有100μm厚度的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜層壓到所制造的光學構件的所述壓敏膠粘劑層的表面時，測量所述聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的與所述壓敏膠粘劑層相反側上的表面的表面粗糙度，計算所述表面粗糙度的最大值和最小值，并通過下式(A)確定所述翹曲指數，
翹曲指數(μm)＝(最大值)-(最小值)????(A)。
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