[發(fā)明專利]用于加氫處理或加氫裂化的基于鎢的催化劑的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410179595.1 | 申請(qǐng)日： | 2014-04-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN104128190B | 公開（公告）日： | 2019-10-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | T.阿爾方臧;A.邦迪埃勒;C.勒讓;P.雷博德;C.科佩雷特 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | IFP新能源公司 |
| 主分類號(hào)： | B01J23/888 | 分類號(hào)： | B01J23/888;C10G45/08;C10G47/12 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 鄒雪梅;權(quán)陸軍 |
| 地址： | 法國(guó)呂埃*** | 國(guó)省代碼： | 法國(guó);FR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 加氫 處理 加氫裂化 基于 催化劑 制備 方法 | ||
1.包含至少一種載體、任選至少一種元素周期表第VIII族的金屬和至少鎢的催化劑制備方法，其由下列步驟組成：
a) 通過使包含有機(jī)溶劑A和至少基于鎢、為其單體或二聚形式、具有至少一個(gè)W=O或W-OR鍵或至少一個(gè)W=S或W-SR鍵的單核前體——其中[R = CxHy，其中x≥ 1且(x-1) ≤ y ≤(2x+1)，或R = Si(OR')3或R = Si(R')3，其中R' = Cx'Hy'，其中x' ≥ 1且(x'-1) ≤ y' ≤(2x'+1)]——的溶液S與已在低真空或高真空下或在惰性氣流下煅燒的多孔礦物載體接觸，進(jìn)行浸漬；
b) 在無水氣氛中熟化；
c) 在不超過200℃的溫度下在無水氣氛中或在低真空或高真空下或在惰性氣流下干燥所述浸漬的載體以使接枝或沉積在載體表面上的所述前體保持完好；
d) 在含有至少5體積% H2S的H2S/H2或H2S/N2混合物中在等于或高于環(huán)境溫度的溫度下器外硫化。
2.如權(quán)利要求1中所述的方法，其中第VIII族的金屬選自鈷、鐵或鎳。
3.如權(quán)利要求2中所述的方法，其中第VIII族的金屬是鎳。
4.如權(quán)利要求1至3任一中所述的方法，其中所述基于鎢的單核前體是以其單體或二聚形式使用的下式的基于鎢(W)的單核前體
W(=O)n(=S)n'(OR)a(SR')b(L1)c(L2)d(L3)e(L4)f(L5)g,
其中R = CxHy，其中x≥ 1且(x-1) ≤ y ≤ (2x+1)，或 R = Si(OR'')3或R = Si(R'')3，
其中R'' = Cx''Hy''，其中[x'' ≥ 1且(x''-1) ≤ y'' ≤ (2x''+1)]，
其中R' = Cx'Hy'，其中x' ≥ 1且(x'-1) ≤ y' ≤ (2x'+1)，或R' = Si(OR''')3或R'= Si(R''')3，其中R''' = Cx'''Hy'''，其中[x''' ≥ 1且(x'''-1) ≤ y''' ≤ (2x'''+1)]，
其中0 ≤ n+n' ≤ 2且0 ≤ n ≤ 2且0 ≤ n' ≤ 2，
其中，如果n = n' = 0，則(a≠0或b≠0)且[(a+b+c+d+e+f+g = 6且0 ≤ a ≤ 6，0 ≤b ≤ 6，0 ≤ c ≤ 6，0 ≤ d ≤ 6，0 ≤ e ≤ 6，0 ≤ f ≤ 6，0 ≤ g ≤ 6)，或(a+b+c+d+e+f+g = 5且0 ≤ a ≤ 5，0 ≤ b ≤ 5，0 ≤ c ≤ 5，0 ≤ d ≤ 5，0 ≤ e ≤ 5，0 ≤f ≤ 5，0 ≤ g ≤ 5)，或(a+b+c+d+e+f+g = 4且0 ≤ a ≤ 4，0 ≤ b ≤ 4，0 ≤ c ≤4，0 ≤ d ≤ 4，0 ≤ e ≤ 4，0 ≤ f ≤ 4，0 ≤ g ≤ 4)]，
其中，如果[(n=1且n' = 0)或(n' = 1且n = 0)]，則[(a+b+c+d+e+f+g = 4且0 ≤ a≤ 4，0 ≤ b ≤ 4，0 ≤ c ≤ 4，0 ≤ d ≤ 4，0 ≤ e ≤ 4，0 ≤ f ≤ 4，0 ≤ g ≤4)]或 [(a+b+c+d+e+f+g = 3且0 ≤ a ≤ 3，0 ≤ b ≤ 3，0 ≤ c ≤ 3，0 ≤ d ≤ 3，0≤ e ≤ 3，0 ≤ f ≤ 3，0 ≤ g ≤ 3)]，
其中，如果[n+n'=2且0 ≤ n ≤ 2且0 ≤ n' ≤ 2]，則(a+b+c+d+e+f+g = 2且0 ≤ a≤ 2，0 ≤ b ≤ 2，0 ≤ c ≤ 2，0 ≤ d ≤ 2，0 ≤ e ≤ 2，0 ≤ f ≤ 2，0 ≤ g ≤2)，
其中(L1)、(L2)、(L3)、(L4)和(L5)選自THF、二甲基醚、二甲基硫醚、P(CH3)3、烯丙基、芳基、鹵素、胺、乙酸根、乙酰丙酮酸根、鹵離子、氫氧根和-SH類型的配體。
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