[發(fā)明專利]用于介質的處理的系統(tǒng)和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410172844.4
• 申請日: 2014-04-28
• 公開（公告）號: CN104248902B
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發(fā)明（設計）人: S.P.辛赫;H.R.阿查亞;R.J.佩里;J.B.麥德莫特
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: B01D53/14
• 分類號: B01D53/14;B01D53/18;B01D53/78
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 何欣亭;劉春元

1.一種用于介質的處理的系統(tǒng)，包括：

多個分離器區(qū)；以及

多個傳熱區(qū)，其中所述多個分離器區(qū)之中的各分離器區(qū)以及所述多個傳熱區(qū)之中的各傳熱區(qū)交替設置在一個流管中，所述流管整個地沿著水平方向布置以供氣體介質在所述流管內沿其流動，其中各分離器區(qū)包括用于相對所述氣體介質的流動方向將吸附劑注入對應分離器區(qū)的注入器裝置，以用于使所述吸附劑與流經(jīng)所述對應分離器區(qū)的所述氣體介質發(fā)生反應，從而成經(jīng)反應氣體介質和經(jīng)反應吸附劑，其中各傳熱區(qū)交換從所述對應分離器區(qū)所饋送的所述經(jīng)反應氣體介質與傳熱介質之間的熱量；

再循環(huán)通道，所述再循環(huán)通道從所述流管向外伸出、并從布置在下游的一個分離器區(qū)延伸到布置在上游的另一個分離器區(qū)，以用于將經(jīng)反應吸附劑從所述一個分離器區(qū)再循環(huán)到所述另一個分離器區(qū)；及

多個收集器區(qū)，其中所述收集器區(qū)中的每個收集器區(qū)連接到相應的分離器區(qū)的下游側，用于從所述相應的分離器區(qū)接收所述經(jīng)反應吸附劑。

2.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述多個分離器區(qū)之中的各分離器區(qū)包括吸收器區(qū)。

3.如權利要求2所述的系統(tǒng)，其中，對應注入器裝置注入與對應吸收器區(qū)中的所述氣體介質的流動垂直的所述吸附劑，以用于吸收來自所述氣體介質的成分的一部分，以便生成所述經(jīng)反應氣體介質和所述經(jīng)反應吸附劑。

4.如權利要求3所述的系統(tǒng)，其中，各傳熱區(qū)饋送與所述經(jīng)反應氣體介質的所述流動垂直的所述傳熱介質，以用于冷卻所述經(jīng)反應氣體介質。

5.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述多個分離器區(qū)之中的各分離器區(qū)包括解吸器區(qū)。

6.如權利要求5所述的系統(tǒng)，其中，對應注入器裝置注入與所述對應解吸器區(qū)中的所述氣體介質的所述流動垂直的所述吸附劑，以用于解吸來自所述吸附劑的成分的一部分，以便生成所述經(jīng)反應氣體介質和所述經(jīng)反應吸附劑。

7.如權利要求6所述的系統(tǒng)，其中，各傳熱區(qū)饋送與所述經(jīng)反應氣體介質的所述流動垂直的所述傳熱介質，以用于加熱所述經(jīng)反應氣體介質。

8.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，各傳熱區(qū)通過使所述經(jīng)反應氣體介質與所述傳熱介質直接接觸，來交換所述經(jīng)反應氣體介質與所述傳熱介質之間的熱量。

9.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，各傳熱區(qū)間接地交換所述經(jīng)反應氣體介質與所述傳熱介質之間的熱量。

10.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，各傳熱區(qū)包括用于防止所述傳熱區(qū)的積垢的不粘涂層。

11.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，各傳熱區(qū)包括用于振動所述傳熱區(qū)以防止所述傳熱區(qū)的積垢的振動器裝置。

12.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，彼此相鄰的分離器區(qū)和對應的傳熱區(qū)的每一個為一體設置。

13.如權利要求1所述的系統(tǒng)，還包括耦合到各傳熱區(qū)的下游側的有機蘭金循環(huán)，其中所述有機蘭金循環(huán)使包含所述傳熱介質的工作流體循環(huán)。

14.如權利要求1所述的系統(tǒng)，其中，各分離器區(qū)的長度基于所述氣體介質的流率、所述氣體介質的組成、所述吸附劑的流率、所述吸附劑的組成、從所述注入器裝置所注入的所述吸附劑的各微滴的大小以及所述對應分離器區(qū)中的所述吸附劑與所述氣體介質之間的密度差中的至少一個來設計。