[發明專利]二維大規模激光束陣列占空比調節裝置有效
| 申請號： | 201410172792.0 | 申請日： | 2014-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN104020566B | 公開（公告）日： | 2017-01-04 |
| 發明（設計）人： | 周軍;楊依楓;何兵;劉厚康;鄭也;胡曼 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G02B27/09 | 分類號： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司31213 | 代理人： | 張澤純 |
| 地址： | 201800 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 二維 大規模 激光束 陣列 調節 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種二維大規模激光束陣列占空比調節裝置，其特征是：由同光軸凸面角錐棱鏡(1)和凹面角錐棱鏡(2)組成，所述的凸面角錐棱鏡(1)的底面、凸面角錐棱鏡(1)的圓錐面、凹面角錐棱鏡(2)的圓錐面和凹面角錐棱鏡(2)的底面沿光軸依次排列，所述的凸面角錐棱鏡(1)或凹面角錐棱鏡(2)置于沿光軸移動的調節機構上。
2.根據權利要求1所述的二維大規模激光束陣列占空比調節裝置，其特征在于，所述的凸面角錐棱鏡(1)、凹面角錐棱鏡(2)的圓錐面均為旋轉對稱面。
3.根據權利要求1所述的二維大規模激光束陣列占空比調節裝置，其特征在于，所述的凸面角錐棱鏡(1)、凹面角錐棱鏡(2)的直徑相同，邊緣厚度相同，圓錐面互補。
4.根據權利要求1所述的二維大規模激光束陣列占空比調節裝置，其特征在于，所述的凸面角錐棱鏡(1)的底面、凸面角錐棱鏡(1)的圓錐面、凹面角錐棱鏡(2)的底面和凹面角錐棱鏡(2)的圓錐面鍍有與激光波長對應的多層電介質增透膜。
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