[發明專利]多個傳感器間相互位置關系校準方法

有效

• 申請號: 201410171812.2
• 申請日: 2014-04-25
• 公開（公告）號: CN105005182B
• 公開（公告）日: 2017-06-27
• 發明（設計）人: 馬琳琳;楊志勇;孫剛
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅,李時云

1.一種多個傳感器間相互位置關系校準方法，通過掩模對準傳感器和基板對準傳感器測量設置在工件臺基準版上的基準標記，建立掩模對準傳感器與基板對準傳感器之間的位置關系，包括離線標定與在線標定，所述離線標定包括采用基板對準傳感器對工件臺基準版上的基準標記進行位置測量；所述在線標定包括離軸基線更新和同軸基線更新，所述離軸基線更新包括通過該基準標記上的第一標記對基板對準傳感器進行位置標定；所述同軸基線更新包括通過該基準標記上的第二標記對掩膜對準傳感器進行位置標定。

2.如權利要求1所述的多個傳感器間相互位置關系校準方法，其特征在于，所述離線標定包括：

采用干涉儀分別對每個掩模對準傳感器和每個基板對準傳感器進行位置標定，建立掩模對準傳感器、基板對準傳感器與干涉儀之間的關系；

移動工件臺，采用一個基板對準傳感器依次對準工件臺基準版上的基準標記，并標定每個基準標記相對于工件臺的位置；

使第一標記同時對準所有基板對準傳感器，從而標定所有基板對準傳感器的位置。

3.如權利要求2所述的多個傳感器間相互位置關系校準方法，其特征在于，所述離軸基線更新包括：將所有基板對準傳感器同時對準第一標記，測得的工件臺基準版的位置變化，并把在線測得的工件臺基準版的位置變化補償到所述基板對準傳感器上。

4.如權利要求2所述的多個傳感器間相互位置關系校準方法，其特征在于，所述同軸基線更新包括：移動掩模臺和工件臺到物鏡陣列下，所有掩模對準傳感器測量其各自對應的第二標記的像素值變化，進而更新所述基準標記的像素位置。

5.如權利要求1所述的多個傳感器間相互位置關系校準方法，其特征在于，兩掩模對準傳感器間距與兩基板對準傳感器間距相同。

6.如權利要求1所述的多個傳感器間相互位置關系校準方法，其特征在于，所述掩模對準傳感器和基板對準傳感器的排列方向相同，均與光刻機系統的掃描方向垂直。

7.如權利要求1所述的多個傳感器間相互位置關系校準方法，其特征在于：所述第一標記和第二標記部分重合。