[發(fā)明專利]光學(xué)構(gòu)造和采用所述光學(xué)構(gòu)造的顯示系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410171356.1
• 申請日: 2010-04-15
• 公開（公告）號: CN103885107A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郝恩才;呂菲;威廉·布雷克·科爾布;布萊恩·W·奧斯特雷;亞當(dāng)·D·哈格;邁克爾·本頓·弗里;威廉·D·科焦;邁克爾·L·斯坦納;蘇曼特里·維達(dá)格多;陳葵;劉蘭虹;羅伯特·F·卡姆拉特;斯科特·M·塔皮奧;約翰·A·惠特利;查爾斯·D·霍伊爾;邁克爾·F·韋伯
• 申請（專利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13357
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 丁業(yè)平;金小芳

1.一種光學(xué)構(gòu)造，包括：

反射型偏振器層；以及

光學(xué)膜，所述光學(xué)膜設(shè)置在所述反射型偏振器層上，并具有多個空隙和不小于約50％的光霧度，其中所述光學(xué)構(gòu)造中每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分彼此直接接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述光學(xué)膜具有不小于約60％的光霧度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述光學(xué)膜具有不小于約70％的光霧度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述光學(xué)膜具有不小于約80％的光霧度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)構(gòu)造，具有不小于約1.2的軸向亮度增益。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)構(gòu)造，具有不小于約1.3的軸向亮度增益。