[發明專利]離子束測定裝置及離子束測定方法

有效

• 申請號: 201410168751.4
• 申請日: 2014-04-24
• 公開（公告）號: CN104253010B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 井門德安;稻田耕二;渡邊一浩
• 申請（專利權）人: 斯伊恩股份有限公司
• 主分類號: H01J37/244
• 分類號: H01J37/244;H01J37/317;H01J37/304
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種離子束測定裝置，其特征在于，具備：

單一掩模，用于將原始的離子束整形為具備在與離子束行進方向垂直的y方向較長的至少一個第一y射束部分及至少一個第二y射束部分、和在與所述行進方向及y方向垂直的x方向較長的至少一個x射束部分的測定用離子束；

檢測部，構成為檢測所述至少一個第一y射束部分以及至少一個第二y射束部分的x方向位置，并檢測所述至少一個x射束部分的y方向位置；及

射束角度運算部，構成為利用所述x方向位置運算x方向射束角度，并利用所述y方向位置運算y方向射束角度，

所述原始的離子束為遍及比y方向的寬度長的x方向的掃描范圍而掃描的離子束，

所述單一掩模在向基板注入離子期間位于從所述掃描的離子束偏移的退避位置，且在進行測定時從所述退避位置向對所述單一掩模照射所述掃描的離子束的測定位置移動，

所述單一掩模具備：分別整形所述至少一個第一y射束部分以及所述至少一個第二y射束部分的至少一個第一y狹縫以及至少一個第二y狹縫；和整形所述至少一個x射束部分的至少一個x狹縫，

所述至少一個第一y狹縫被配置在所述掃描的離子束入射的所述單一掩模上的被照射區域的端部，所述至少一個第二y狹縫配置在所述被照射區域的相反側的端部，所述至少一個x狹縫被配置在所述至少一個第一y狹縫和所述至少一個第二y狹縫之間，

所述至少一個第一y狹縫、所述至少一個第二y狹縫以及所述至少一個x狹縫在所述單一掩模上的所述被照射區域的內部沿x方向排列。

2.根據權利要求1所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述單一掩模具備配置于所述被照射區域的x方向中央的中央第1掩模部分及配置于所述被照射區域的x方向端部的端部第1掩模部分。

3.根據權利要求1或2所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述單一掩模具備沿x方向排列的多個第一y狹縫。

4.根據權利要求1或2所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述單一掩模具備在某一y位置具備x狹縫的第2掩模部分及在另一y位置具備x狹縫的另一第2掩模部分。

5.根據權利要求1或2所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述第一y狹縫、所述第二y狹縫和/或所述x狹縫的寬度在所述離子束行進方向的下游側寬于上游側。

6.根據權利要求1或2所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述單一掩模中相鄰的2個狹縫的間隔被限定為所述測定用離子束入射到所述檢測部時相鄰的2個離子束部分彼此分離。

7.根據權利要求1或2所述的離子束測定裝置，其特征在于，

在所述檢測部進行檢測的期間，所述單一掩模靜止。

8.根據權利要求1所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述檢測部具備以橫切所述測定用離子束的方式至少能夠向x方向移動的移動檢測器，所述移動檢測器至少檢測所述第一y射束部分以及所述第二y射束部分的x方向位置。

9.根據權利要求8所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述移動檢測器具備與所述第一y射束部分以及所述第二y射束部分對應地在y方向較長的檢測要件。

10.根據權利要求8所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述檢測部具備配設成至少接受所述x射束部分的固定檢測器，所述固定檢測器具備至少沿y方向排列的多個檢測要件，并檢測所述x射束部分的y方向位置。

11.根據權利要求10所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述固定檢測器在所述離子束行進方向上配置于所述移動檢測器的下游。

12.根據權利要求11所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述固定檢測器在所述移動檢測器遠離所述x射束部分時檢測所述x射束部分的y方向位置。

13.根據權利要求8所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述移動檢測器具備至少沿y方向排列的多個檢測要件，并檢測x射束部分的y方向位置。

14.根據權利要求8至13中任一項所述的離子束測定裝置，其特征在于，

所述移動檢測器為了接受所述x射束部分而減速或靜止。