[發明專利]霧霾顆粒物探測芯片及其制造方法有效
| 申請號: | 201410167848.3 | 申請日: | 2014-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN103940712A | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發明(設計)人: | 張利勝;孫喆;楊桂霞;方炎;王培杰;李志鵬;姜小凡;賈冀 | 申請(專利權)人: | 張利勝 |
| 主分類號: | G01N15/06 | 分類號: | G01N15/06 |
| 代理公司: | 北京匯智勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11346 | 代理人: | 朱登河 |
| 地址: | 100048 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顆粒 物探 芯片 及其 制造 方法 | ||
1.一種霧霾顆粒物探測芯片,應用于包括激光設備、霧靄顆粒物探測芯片和顯示設備的大氣顆粒物探測裝置,所述激光設備用于發射激光,所述激光通過所述霧靄顆粒物探測芯片的表面;所述霧靄顆粒物探測芯片用于接收被散射的激光,產生電信號并傳輸電信號到所述顯示設備;所述顯示設備用于處理所述電信號兵顯示霧靄顆粒物的探測結果;其特征在于,
所述霧靄顆粒物探測芯片包括層狀結構,從最底層到最上層依次為:玻璃基底、CdSe薄膜、貴金屬納米點陣列、銀對梳妝電極系統、氧化鋁薄膜和增透膜,其中,
所述增透膜的中心波長與所述激光的波長相同,用于減少被散射的激光在通過所述霧靄顆粒物探測芯片的表面時的反射強度,最大限度通過所述激光;
所述氧化鋁薄膜用于通過所述激光,并隔離空氣避免氧氣對內層薄膜和納米點陣列的損傷;
所述銀對梳妝電極系統包括相互平行但不交叉的銀梳妝薄膜電極和銀梳妝薄膜對電極,用于收集所述CdSe薄膜產生的電信號,將電信號傳輸至所述顯示設備;
所述貴金屬納米點陣列用于通過表面等離子體共振作用對激光信號進行放大,并傳輸放大后的激光信號至所述CdSe薄膜;
所述CdSe薄膜用于在放大后的激光信號的作用下產生電信號;
所述玻璃基底用于承載上層結構并對所述電信號絕緣。
2.如權利要求1所述的霧霾顆粒物探測芯片,其特征在于,所述增透膜的中心波長為605nm。
3.如權利要求1所述的霧霾顆粒物探測芯片,其特征在于,所述貴金屬納米點陣列為金或銀納米點陣列。
4.如權利要求1所述的霧霾顆粒物探測芯片,其特征在于,所述CdSe膜的厚度為150-200納米
5.一種權利要求1所述的霧靄顆粒物探測芯片的制造方法,其特征在于,包括:
采用激光分子束外延技術在玻璃基底上制備CdSe薄膜;
在所述CdSe薄膜的表面設置貴金屬納米點陣列;
采用掩膜板真空蒸法在所述貴金屬納米點陣列表面制備銀對梳狀電極系統;
采用原子層沉積技術在銀對梳狀電極系統的表面制備氧化鋁薄膜;
在所述氧化鋁薄膜上制備增透膜。
6.如權利要求5所述的方法,其特征在于,所述貴金屬納米點陣列為金或銀納米點陣列。
7.如權利要求5所述的方法,其特征在于,所述CdSe膜的厚度為150-200納米。
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