[發明專利]可簡化數組制程工序的微影成形方法在審
| 申請號： | 201410166913.0 | 申請日： | 2014-04-24 |
| 公開（公告）號： | CN103913947A | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發明（設計）人： | 吳思宗 | 申請（專利權）人： | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海唯源專利代理有限公司 31229 | 代理人： | 曾耀先 |
| 地址： | 201508 上海市金山區*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 可簡化 數組 工序 成形 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種可簡化數組制程工序的微影成形方法，其特征在于包含：
連續涂布光阻劑步驟，于一玻璃基板上依序層迭涂布復數不同的光阻劑，各光阻劑的感光條件不同，且于在先涂布的光阻劑干燥后才涂布另一種光阻劑；
曝光步驟，透過一光罩對已涂布不同光阻劑的玻璃基板進行曝光并使該光罩上的圖形轉移至光阻劑上，不同的光阻劑便能與該光罩的光源產生不同的感光反應，并在同一曝光步驟下產生不同反應；
顯影步驟，對曝光后的光阻劑進行顯影；
養護步驟，透過烘烤使顯影后的圖形部分穩固地結合于該玻璃基板上；以及
蝕刻步驟，透過蝕刻工法形成不同錐形體。
2.如權利要求1所述的可簡化數組制程工序的微影成形方法，其特征在于：光阻劑干燥的方式可為真空減壓干燥或熱板烘烤。
3.如權利要求1所述的可簡化數組制程工序的微影成形方法，其特征在于：所述連續涂布光阻劑步驟為于該玻璃基板上依序層迭涂布兩種不同的光阻劑，依序經過所述曝光步驟、顯影步驟、養護步驟及所述蝕刻步驟后形成像素隔離層及間隔子。
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