[發明專利]一種金屬低刻蝕光刻膠剝離液

有效

• 申請號: 201410165928.5
• 申請日: 2014-04-23
• 公開（公告）號: CN105022237B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 劉江華;劉兵;彭洪修
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 北京大成律師事務所 11352
• 代理人: 李佳銘

1.一種金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，由(1)季胺氫氧化物，(2)醇胺，(3)有機溶劑，(4)糖酸或糖酸內酯，(5)帶有顏料親和基團的星型共聚物組成，且所述的季胺氫氧化物的含量為質量百分比0.1-10％，所述的醇胺含量為質量百分比0.1-20％，所述的糖酸或糖酸內酯含量為質量百分比0.05～6％，所述的有機溶劑為余量；所述的醇胺為選自單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一種或多種；糖酸或糖酸內酯為五元糖酸或糖酸內酯和/或六元糖酸或糖酸內酯；所述的帶有顏料親和基團的星型共聚物含量為質量百分比10ppm～3％；所述的帶有顏料親和基團的星型共聚物為含有羥基、氨基或羧基的顏料親和基團的星型聚合物，或者含顏料親和基團的聚丙烯酸酯類星型共聚物；所述的有機溶劑為亞砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一種或多種。

2.如權利要求1所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，其中所述的季胺氫氧化物的含量為質量百分比0.5-8％，所述的醇胺含量為質量百分比0.5-10％，所述的糖酸或糖酸內酯含量為質量百分比0.1-5％，所述的溶劑為余量。

3.如權利要求1所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，其中所述的季胺氫氧化物為選自四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、十六烷基三甲基氫氧化銨和芐基三甲基氫氧化銨中的一種或多種。

4.如權利要求1所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，其中所述的糖酸或糖酸內酯選自D-核糖酸、L-核糖酸、核糖酸-1,4-內酯、D-(+)核糖酸-γ-內酯、葡萄糖酸、D-葡萄糖醛酸、D-葡萄糖酸-γ-內酯、L-葡糖酸-1,5-內酯、D-葡糖醛酸-3，6-內酯、D-甘露糖酸-1,4-內酯、L-甘露糖酸-1,4-內酯、甘露糖二酸、甘露糖二酸-1,4-內酯、葡萄糖二酸、D-葡萄糖二酸1,4-內酯中的一種或幾種。

5.如權利要求1所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，其中所述的帶有顏料親和基團的星型共聚物含量為質量百分比0.05-3％。

6.如權利要求1所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，其中所述的帶有顏料親和基團的聚丙烯酸酯類星型共聚物為含有羥基或氨基的聚丙烯酸酯類星型共聚物。

7.如權利要求6所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，其中所述的含有羥基或氨基的聚丙烯酸酯類星型共聚物為聚丙烯酸星型共聚物、苯乙烯與丙烯酸羥乙酯的二元星型共聚物、丙烯酸、馬來酸酐與苯乙烯三元星型共聚體系，丙烯酸甲酯及丙烯酸羥乙酯的二元星型共聚物、丙烯酸與馬來酸的二元共聚物，丙烯酸與及丙烯酸羥乙酯的二元星型共聚物、或丙烯酸與丙烯酸丁酯及丙烯酰胺的三元星型共聚物。

8.如權利要求1所述的金屬低刻蝕光刻膠剝離液，其特征在于，所述的亞砜為二甲基亞砜和甲乙基亞砜中的一種或多種；所述的砜為甲基砜、環丁砜中的一種或多種；所述的咪唑烷酮為2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一種或多種；所述的吡咯烷酮為N-甲基吡咯烷酮和N-環己基吡咯烷酮中的一種或多種；所述的咪唑啉酮為1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺為二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一種或多種；所述的醇醚為二乙二醇單丁醚和二丙二醇單甲醚中的一種或多種。