[發明專利]用于將掩膜版和基板對齊的方法及彩膜基板的制造方法

有效

• 申請號: 201410164615.8
• 申請日: 2014-04-23
• 公開（公告）號: CN103969873A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 王聳;萬冀豫;楊同華
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1335;G03F9/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 宋珊珊

1.一種用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，包括如下步驟：

在基板上形成至少一個基板對位標記集合，每個所述基板對位標記集合包括n個基板對位標記，所述n個基板對位標記是X種形貌的基板對位標記，其中，n是所制造彩膜基板的每個像素包括的子像素的個數，n是大于等于3的自然數，X是小于等于n的自然數；

在掩膜版上形成與所述基板對位標記集合一一對應的掩膜對位標記集合，每個所述掩膜對位標記集合包括n個掩膜對位標記，所述n個掩膜對位標記是Y種形貌的掩膜對位標記，Y是小于等于n的自然數且XY≥n；

所述掩膜對位標記集合和與之對應的基板對位標記集合對位，每一個掩膜對位標記與一個基板對位標記對位形成n種不同的對位形貌。

2.根據權利要求1所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，所述X種形貌的基板對位標記分別是第一種形貌的基板對位標記，第二種形貌的基板對位標記，......，第X種形貌的基板對位標記；其中，所述第二種形貌的基板對位標記，......，第X種形貌的基板對位標記是所述第一種形貌的基板對位標記旋轉后的形貌；

所述Y種形貌的掩膜對位標記分別是第一種形貌的掩膜對位標記，第二種形貌的掩膜對位標記，......，第Y種形貌的掩膜對位標記；其中，所述第二種形貌的掩膜對位標記，......，第Y種形貌的掩膜對位標記是所述第一種形貌的掩膜對位標記旋轉角度后的形貌。

3.根據權利要求2所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，n＝3，X＝Y＝2，所述第二種形貌的基板對位標記是第一種形貌的基板對位標記旋轉45度的形貌，所述第二種形貌的掩膜對位標記是第一種形貌的掩膜對位標記旋轉45度的形貌。

4.根據權利要求3所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，所制造的彩膜基板的每個像素包括紅色子像素，綠色子像素和藍色子像素，所述3個基板對位標記分別是紅色子像素基板對位標記，綠色子像素基板對位標記和藍色子像素基板對位標記；

所述3個掩膜對位標記分別是紅色子像素掩膜對位標記，綠色子像素掩膜對位標記和藍色子像素掩膜對位標記；

所述三種不同的對位形貌分別是由紅色子像素掩膜對位標記和紅色子像素基板對位標記對位形成的第一種對位形貌，由綠色子像素掩膜對位標記和綠色子像素基板對位標記對位形成的第二種對位形貌，由藍色子像素掩膜對位標記和藍色子像素基板對位標記對位形成的第三種對位形貌。

5.根據權利要求2所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，n＝4，X＝Y＝2，所述第二種形貌的基板對位標記是第一種形貌的基板對位標記旋轉45度的形貌，所述第二種形貌的掩膜對位標記是第一種形貌的掩膜對位標記旋轉45度的形貌。

6.根據權利要求5所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，所制造的彩膜基板的每個像素包括紅色子像素，綠色子像素，藍色子像素和白色子像素，所述4個基板對位標記分別是紅色子像素基板對位標記，綠色子像素基板對位標記，藍色子像素基板對位標記和白色子像素基板對位標記；

所述4個掩膜對位標記分別是紅色子像素掩膜對位標記，綠色子像素掩膜對位標記，藍色子像素掩膜對位標記和白色子像素掩膜對位標記；

所述四種不同的對位形貌分別是由紅色子像素掩膜對位標記和紅色子像素基板對位標記對位形成的第一種對位形貌，由綠色子像素掩膜對位標記和綠色子像素基板對位標記對位形成的第二種對位形貌，由藍色子像素掩膜對位標記和藍色子像素基板對位標記對位形成的第三種對位形貌，由白色子像素掩膜對位標記和白色子像素基板對位標記對位形成的第四種對位形貌。

7.根據權利要求2所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，X＝1，Y＝n或X＝n，Y＝1。

8.根據權利要求7所述的用于將掩膜版和基板對齊的方法，其特征在于，n＝3或n＝4。

9.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，掩膜版和基板對齊采用權利要求1-8中任一所述的方法。