[發明專利]一種研磨盤裝置有效
| 申請號： | 201410163591.4 | 申請日： | 2014-04-22 |
| 公開（公告）號： | CN104440516B | 公開（公告）日： | 2017-03-15 |
| 發明（設計）人： | 趙正元;李虎;張守龍 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/11 | 分類號： | B24B37/11 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所31272 | 代理人： | 吳俊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 研磨 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種研磨盤裝置，應用于化學機械研磨工藝中，其特征在于，所述裝置包括：
一研磨盤主體，其表面設置有凸出的且頂部位于同一高度處的若干鉆石，所述鉆石部分嵌入所述研磨盤主體的表面；
一固定環，沿所述研磨盤主體的邊緣環繞設置，且所述固定環的頂部與若干所述鉆石的頂部位于同一高度；
一真空導管，所述真空導管的管口設置于所述研磨盤主體的表面上。
2.如權利要求1所述的一種研磨盤裝置，其特征在于，每個所述鉆石暴露部分的主視圖均為三角形。
3.如權利要求1所述的一種研磨盤裝置，其特征在于，所述研磨盤主體包括一基板。
4.如權利要求1所述的一種研磨盤裝置，其特征在于，所述真空導管與一研磨機臺的排水口連接。
5.如權利要求1所述的一種研磨盤裝置，其特征在于，所述真空導管的管口位于所述研磨盤主體的中心處。
6.如權利要求1所述的一種研磨盤裝置，其特征在于，所述固定環的材質為一塑料。
7.如權利要求6所述的一種研磨盤裝置，其特征在于，所述塑料為聚苯硫醚。
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