[發明專利]具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機在審
| 申請號： | 201410162785.2 | 申請日： | 2014-04-22 |
| 公開（公告）號： | CN104076615A | 公開（公告）日： | 2014-10-01 |
| 發明（設計）人： | 童立峰;戴韞青;王劍 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 硅片 讀取 存儲 裝置 曝光 平臺 | ||
1.一種具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機，其特征在于，所述曝光機包括：?
硅片刻號讀取裝置，設置在硅片入端和具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機的第一曝光平臺和第二曝光平臺之間；?
硅片存儲裝置，用于存儲前層曝光機臺與當前閑置機臺不一致之硅片；?
第一曝光平臺和第二曝光平臺，所述第一曝光平臺用于曝光前層曝光機臺為第一曝光平臺的硅片，所述第二曝光平臺用于曝光前層曝光機臺為第二曝光平臺的硅片。?
2.如權利要求1所述的具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機，其特征在于，所述硅片之刻號與所述硅片之前層曝光機臺對應，根據所述硅片之刻號獲取所述硅片之前層曝光機臺信息。?
3.如權利要求1所述的具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機，其特征在于，所述閑置機臺為在所述硅片完成刻號讀取，并即將輸入至所述曝光機臺時，所述第一曝光平臺或所述第二曝光平臺未進行曝光工藝的機臺。?
4.一種如權利要求1所述的具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機，其特征在于，所述曝光機在工作時，包括以下步驟：?
執行步驟S1：所述硅片從所述硅片入端進入所述具有硅片刻號讀取及硅片存儲的雙曝光平臺之曝光機，并在所述硅片刻號讀取裝置處讀取所述硅片之刻號，進而根據所述硅片之刻號獲取所述硅片之前層曝光機臺信息；?
執行步驟S2：若所述硅片之前層曝光機臺與當前閑置機臺一致，則將所述硅片傳送至所述閑置機臺曝光；若所述硅片之前層曝光機臺與當前閑置機臺不一致，則所述硅片存儲在所述硅片存儲裝置，待異于所述閑置機臺的第一曝光平臺或第二曝光平臺完成曝光后，所述硅片傳輸之所述第一曝光平臺?或第二曝光平臺進行曝光。?
5.一種如權利要求4所述的具有硅片刻號讀取及硅片存儲裝置的雙曝光平臺之曝光機，其特征在于，所述曝光機在工作時，進一步包括以下步驟：?
執行步驟S3：在所述硅片之前層曝光機臺與當前閑置機臺不一致，所述硅片存儲在所述硅片存儲裝置上，且所述硅片入端同時進行下一硅片處理。?
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