[發明專利]光束均勻化方法及光束均勻化裝置

有效

• 申請號: 201410161296.5
• 申請日: 2014-04-21
• 公開（公告）號: CN103955063B
• 公開（公告）日: 2017-06-16
• 發明（設計）人: 羅新華;湯兆勝;曾麗;金永軍;孫玉琴
• 申請（專利權）人: 上海兆九光電技術有限公司
• 主分類號: G02B27/10
• 分類號: G02B27/10
• 代理公司: 上海脫穎律師事務所31259
• 代理人: 李強

1.光束均勻化方法，其特征在于，在入射光束的傳播路徑上設置多個分光鏡，每一個分光鏡包括兩個等腰直角棱鏡，該兩個等腰直角棱鏡相對疊加使其斜面接觸，形成分光面；在入射光束的傳播路徑上設置多個分光膜，且所述分光膜設置在所述分光面上；入射光束透射分光膜后形成第一光束、經分光膜反射后形成第二光束；第一光束與第二光束成一90°夾角；所述第一光束方向與所述入射光束方向相同；所述多個分光膜沿所述第二光束傳輸方向排列；設置至少兩組分光膜，其中第一組分光膜包括第一多個分光膜，第二組分光膜包括第二多個分光膜，兩組分光膜對所述入射光束反射后的光束方向相反。

2.根據權利要求1所述的光束均勻化方法，其特征在于，所述多個分光膜的分光率不相同。

3.根據權利要求1所述的光束均勻化方法，其特征在于，設置多個分光面，每一個分光面上均設置有一個所述分光膜；所述第一多個分光膜相互平行，且沿直線排列；所述第二多個分光膜相互平行，且沿所述直線排列；所述第一多個分光膜與所述第二多個分光膜軸對稱設置。

4.光束均勻化裝置，其特征在于，包括至少一個基片；所述基片包括至少兩個分光面；當入射光束照射于所述基片時，所述入射光束透射分光面后形成第一光束、經分光面反射后形成第二光束；所述第一光束與所述入射光束傳輸方向相同；所述第二光束與所述入射光束具有一90°夾角；所述至少兩個分光面按照第二光束的傳輸方向排列；包括兩個所述基片；兩個所述基片對稱地設置；兩個基片上的分光面對所述入射光束的反射方向相反。

5.根據權利要求4所述的光束均勻化裝置，其特征在于，其中一個基片上的至少兩個分光面相互平行，沿直線排列；另一個基片上的至少兩個分光面相互平行，沿所述直線排列。

6.根據權利要求4所述的光束均勻化裝置，其特征在于，所述分光面設有分光膜。

7.根據權利要求4所述的光束均勻化裝置，其特征在于，所述基片由多個棱鏡組成；所述分光面位于相鄰兩個棱鏡的接觸面上；所述分光面上設置有分光膜。

8.根據權利要求4所述的光束均勻化裝置，其特征在于，所述基片包括至少兩個分光鏡；每個所述分光鏡包括兩個直角棱鏡；所述兩個直角棱鏡的斜面接觸；所述分光膜設置于組成一個分光鏡的兩個直角棱鏡中其中一個或兩個的所述斜面上。

9.根據權利要求8所述的光束均勻化裝置，其特征在于，所述直角棱鏡為等腰直角棱鏡。

10.根據權利要求8所述的光束均勻化裝置，其特征在于，所述直角棱鏡的直角面上設置有增透膜。

11.根據權利要求8所述的光束均勻化裝置，其特征在于，所述兩個以上的分光面的分光率不同。