[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410160192.2 | 申請日: | 2014-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN104167416B | 公開(公告)日: | 2019-05-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 深作克彥 | 申請(專利權(quán))人: | 索尼半導(dǎo)體解決方案公司 |
| 主分類號: | H01L27/04 | 分類號: | H01L27/04;H01L23/60 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人: | 陳桂香;褚海英 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 電子設(shè)備 | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置,其包括:
基板;
晶體管,所述晶體管被構(gòu)造成基于觸發(fā)信號而使第一端子與第二端子之間電導(dǎo)通,且包括位于所述基板的表面中的源極和漏極以及設(shè)置于所述源極和所述漏極之間的半導(dǎo)體區(qū);以及
觸發(fā)器件,所述觸發(fā)器件被形成于形成有所述晶體管的晶體管區(qū)域中,并且設(shè)置于所述基板的處于所述晶體管的所述漏極和所述半導(dǎo)體區(qū)之間的表面上,并且被構(gòu)造用來基于施加至所述第一端子的電壓而生成所述觸發(fā)信號。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中所述觸發(fā)器件包括第一絕緣層和電阻層,所述第一絕緣層被設(shè)置于所述晶體管區(qū)域中的一部分的表面上,所述電阻層被設(shè)置于所述第一絕緣層上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其中所述觸發(fā)器件包括被形成于所述電阻層上的阻擋層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其中所述晶體管包括:
第一導(dǎo)電類型的第一半導(dǎo)體層,所述基板包括所述第一半導(dǎo)體層;
第二導(dǎo)電類型的第二半導(dǎo)體層,所述第二半導(dǎo)體層被連接至所述第一端子,并且所述第二半導(dǎo)體層被選擇性地設(shè)置于所述第一半導(dǎo)體層內(nèi)且靠近所述第一半導(dǎo)體層的表面,所述晶體管的所述漏極包括所述第二半導(dǎo)體層;
所述第二導(dǎo)電類型的第三半導(dǎo)體層,所述第三半導(dǎo)體層被連接至所述第二端子,并且所述第三半導(dǎo)體層以與所述第二半導(dǎo)體層間隔開的方式、被選擇性地設(shè)置于所述第一半導(dǎo)體層內(nèi)且靠近所述第一半導(dǎo)體層的所述表面;
所述第二導(dǎo)電類型的第四半導(dǎo)體層,所述第四半導(dǎo)體層在所述第二半導(dǎo)體層與所述第三半導(dǎo)體層之間被設(shè)置于所述第一半導(dǎo)體層內(nèi)且靠近所述第一半導(dǎo)體層的所述表面,所述晶體管的所述半導(dǎo)體區(qū)包括所述第四半導(dǎo)體層;
第二絕緣層,其被設(shè)置于所述第一半導(dǎo)體層的處于所述第三半導(dǎo)體層與所述第四半導(dǎo)體層之間的所述表面上;以及
導(dǎo)電層,其被設(shè)置于所述第二絕緣層上,與所述觸發(fā)信號對應(yīng)的信號被提供給所述導(dǎo)電層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,其中所述觸發(fā)器件沿與所述第二半導(dǎo)體層、所述第三半導(dǎo)體層和所述第四半導(dǎo)體層的排列方向相交的方向延伸,且所述觸發(fā)器件的第一端和第二端分別被引至所述第一端子和所述導(dǎo)電層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體裝置,其還包括反相器,所述反相器包括輸入端和輸出端,所述輸入端被引至所述觸發(fā)器件的所述第二端,所述輸出端被連接至所述導(dǎo)電層,
其中所述第一導(dǎo)電類型是P型,并且
所述第二導(dǎo)電類型是N型。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,其中
所述電阻層是多晶硅層,并且
所述導(dǎo)電層是經(jīng)過硅化的多晶硅層。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其中所述觸發(fā)器件是分布參數(shù)器件,所述分布參數(shù)器件包括所述電阻層的電阻成分和所述第一絕緣層的電容成分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的半導(dǎo)體裝置,其中
所述晶體管由預(yù)定數(shù)量的晶體管元件構(gòu)成,并且
所述觸發(fā)器件由所述預(yù)定數(shù)量的觸發(fā)元件構(gòu)成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的半導(dǎo)體裝置,其中
所述晶體管由預(yù)定數(shù)量的晶體管元件構(gòu)成,并且
所述觸發(fā)器件由比所述預(yù)定數(shù)量少的數(shù)量的觸發(fā)元件構(gòu)成。
11.一種電子設(shè)備,其包括:
權(quán)利要求1至10中任一項所述的半導(dǎo)體裝置;以及
內(nèi)部電路,所述內(nèi)部電路被連接至所述第一端子和所述第二端子。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





