[發(fā)明專利]多波段目標(biāo)/背景生成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410160125.0
• 申請日: 2014-04-21
• 公開（公告）號: CN103900422A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張旺;汪東生;秦蘭琦;陳守謙;楊茂華;左寶君;范志剛
• 申請（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: F41G3/32
• 分類號: F41G3/32;G02B27/10;G02B27/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述生成裝置包括多波段復(fù)合光學(xué)系統(tǒng)、多波段目標(biāo)黑體、多波段背景黑體、靶標(biāo)組件和二維姿態(tài)調(diào)整平臺，二維姿態(tài)調(diào)整平臺上方安裝多波段復(fù)合光學(xué)系統(tǒng)，所述多波段復(fù)合光學(xué)系統(tǒng)由平面反射鏡和離軸拋物面鏡組成，所述靶標(biāo)組件由靶標(biāo)基座和靶標(biāo)兩部分組成，靶標(biāo)置于離軸拋物面鏡的焦平面上，多波段目標(biāo)黑體置于靶標(biāo)后方照射靶標(biāo)孔后形成目標(biāo)光束，多波段背景黑體發(fā)出的輻射光束照射靶標(biāo)內(nèi)表面后形成背景光束，背景光束與目標(biāo)光束合成一束后由靶標(biāo)處出射，經(jīng)由平面反射鏡反射到離軸拋物面鏡上，再由離軸拋物面鏡準(zhǔn)直變成平行光束，形成無窮遠(yuǎn)的多波段目標(biāo)/背景供待測設(shè)備測試使用。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述靶標(biāo)的基體材料選用紫銅片，材質(zhì)與多波段目標(biāo)黑體和多波段背景黑體輻射源輻射板相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述多波段背景黑體的輻射面法線方向與靶標(biāo)面法線方向的夾角為一固定值，該值與離軸拋物面鏡的離軸距和光學(xué)元件的擺放位置有關(guān)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述靶標(biāo)表面反射率為90%以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述靶標(biāo)厚度為2mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述靶標(biāo)的內(nèi)表面拋光、鍍膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述靶標(biāo)基座安裝在多波段復(fù)合光學(xué)系統(tǒng)焦平面中心。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述二維姿態(tài)調(diào)整平臺由鑄鋁平臺和二維姿態(tài)調(diào)整機構(gòu)組成，鑄鋁平臺上方安裝多波段復(fù)合光學(xué)系統(tǒng)，下方與二維姿態(tài)調(diào)整裝置連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求1、7或8所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述多波段復(fù)合光學(xué)系統(tǒng)的出光口徑為350毫米，焦距為2000毫米。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波段目標(biāo)/背景生成裝置，其特征在于所述離軸拋物面鏡焦距為2000毫米，離軸距為430毫米。