[發明專利]正反交錯提花尺寸穩定性好面料在審
| 申請號： | 201410159309.5 | 申請日： | 2014-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN105015082A | 公開（公告）日： | 2015-11-04 |
| 發明（設計）人： | 馮愛華 | 申請（專利權）人： | 馮愛華 |
| 主分類號： | B32B5/26 | 分類號： | B32B5/26;B32B9/04;B32B15/09;D03D15/00;D03D13/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 214434 江蘇省無錫*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 正反 交錯 提花 尺寸 穩定性 面料 | ||
【權利要求書】：
1.一種正反交錯提花尺寸穩定性好面料，包括基布（1），所述基布（1）的正反兩面均設有提花層（2），其特征在于：所述提花層（2）包括若干個提花區域（21）和非提花區域（22），所述提花區域（21）和非提花區域（22）均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區域（21）和非提花區域（22）交錯對稱分布，所述基布（1）由織物制成，所述織物包括織物上層、織物中間層以及織物下層，織物上層為銀纖維面料層，織物下層為竹炭纖維面料層，織物中間層為加強層，加強層由經紗和緯紗相互交織而成，所述的經紗和緯紗為二上二下設置，所述的經紗為50D/72F滌綸低彈絲，緯紗為5D/36F滌綸低彈絲，且所述的經紗和緯紗為斜紋組織結構。
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