[發(fā)明專利]基于Féry棱鏡的一體化機(jī)載大視場高光譜成像系統(tǒng)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410158817.1 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103940743A | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周錦松;董偉;相里斌;張金剛;聶云峰;黃旻;馮蕾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/01 | 分類號(hào): | G01N21/01;G01N21/31 |
| 代理公司: | 北京凱特來知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11260 | 代理人: | 鄭立明;鄭哲 |
| 地址: | 100080 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 ry 棱鏡 一體化 機(jī)載 視場 光譜 成像 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光譜成像技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及基于Féry棱鏡的一體化機(jī)載大視場高光譜成像系統(tǒng)。
背景技術(shù)
Féry棱鏡(即曲面棱鏡,是將傳統(tǒng)平面棱鏡的工作平面加工為球面)提出于20世紀(jì)初期,90年代開始應(yīng)用于光譜成像技術(shù)領(lǐng)域。Féry棱鏡是把傳統(tǒng)棱鏡的兩個(gè)平面加工為球面,能夠獲得“純凈的光譜”,并通過理論研究表明Féry棱鏡光譜成像儀可以直接放置在非平行光路中,從而避免準(zhǔn)直鏡和成像鏡的使用,降低譜帶彎曲和譜線彎曲。
現(xiàn)有的Offner中繼成像系統(tǒng)由三片球面反射鏡組成,主鏡、次鏡、三鏡,光線入射主鏡后經(jīng)主鏡反射到次鏡,再由次鏡反射給三鏡,最后成像于像面處,整個(gè)系統(tǒng)是一種對(duì)稱的結(jié)構(gòu)。
視場影響機(jī)載光譜成像系統(tǒng)的遙感作業(yè)效率。光譜成像系統(tǒng)前置鏡的視場受光學(xué)設(shè)計(jì)方面的限制,獲得大的刈幅寬度目前采用較多的方法是多臺(tái)獨(dú)立光譜成像系統(tǒng)的視場拼接。這種拼接方案造成全系統(tǒng)的體積過大,不能滿足光譜成像系統(tǒng)小型化、輕量化的發(fā)展需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基于Féry棱鏡的一體化機(jī)載大視場高光譜成像系統(tǒng),減小體積和重量,同時(shí)增大了系統(tǒng)的刈幅寬度。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種基于Féry棱鏡的一體化機(jī)載大視場高光譜成像系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:一前置鏡、第一Offner中繼成像系統(tǒng)與第二Offner中繼成像系統(tǒng);
其中,所述前置鏡像面處設(shè)有用于平均分配左右視場的狹縫;
所述第一與第二Offner中繼成像系統(tǒng)分設(shè)在所述前置鏡兩側(cè),均包括:第一與第二反射鏡、第一與第二Féry棱鏡、次鏡與像面;
所述前置鏡像面處的狹縫將光線平均分為左半視場和右半視場;分別對(duì)應(yīng)的進(jìn)入第一Offner中繼成像系統(tǒng)與第二Offner中繼成像系統(tǒng);入射光線依次經(jīng)過第一Féry棱鏡、第一反射鏡、次鏡、第二反射鏡及第二Féry棱鏡達(dá)到像面。
進(jìn)一步的,所述前置鏡像面處的狹縫長度為49.86mm。
進(jìn)一步的,所述前置鏡視場角為28°,狹縫將光線平均分為左半視場和右半視場;
其中,所述左半視場在離軸方向上離軸0.5°,其刈幅方向-0.117°~14°入射到第一Offner中繼成像系統(tǒng)中的第一反射鏡中;
所述右半視場在離軸方向上離軸-0.5°,其刈幅方向0.117°~-14°入射到第二Offner中繼成像系統(tǒng)中的第二反射鏡中。
進(jìn)一步的,所述前置鏡為像方遠(yuǎn)心光路,其像方數(shù)值孔徑為0.12;
所述第一與第二Offner中繼成像系統(tǒng)為物方遠(yuǎn)心光路,其物方數(shù)值孔徑NA為0.12。
由上述本發(fā)明提供的技術(shù)方案可以看出,利用單個(gè)前置鏡和兩個(gè)光譜成像儀的視場內(nèi)拼接,采用透射式系統(tǒng)作為前置鏡和基于Offner中繼系統(tǒng)的Féry棱鏡結(jié)構(gòu)作為光譜成像系統(tǒng),與目前常用的視場外拼接相比,該結(jié)構(gòu)緊湊、輕量化、簡單化,并且可增大了系統(tǒng)的刈幅寬度。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種基于Féry棱鏡的一體化機(jī)載大視場高光譜成像系統(tǒng)的示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例一提供的Féry棱鏡會(huì)聚光路原理的示意圖。
圖3為本發(fā)明實(shí)施例一提供的單個(gè)前置鏡和兩個(gè)相同的Offner中繼成像系統(tǒng)進(jìn)行視場內(nèi)拼接的示意圖
圖4a為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種視場分割的側(cè)視圖;
圖4b為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種視場分割的正視圖;
圖5a為本發(fā)明實(shí)施例一提供的左半視場450nm各視場的MTF曲線的示意圖;
圖5b為本發(fā)明實(shí)施例一提供的左半視場700nm各視場的MTF曲線的示意圖;
圖5c為本發(fā)明實(shí)施例一提供的左半視場1000nm各視場的MTF曲線的示意圖;
圖5d為本發(fā)明實(shí)施例一提供的右半視場450nm各視場的MTF曲線的示意圖;
圖5e為本發(fā)明實(shí)施例一提供的右半視場700nm各視場的MTF曲線的示意圖;
圖5f為本發(fā)明實(shí)施例一提供的右半視場1000nm各視場的MTF曲線的示意圖。
具體實(shí)施方式
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





