[發明專利]硬掩模表面處理

有效

• 申請號: 201410153574.2
• 申請日: 2014-01-20
• 公開（公告）號: CN103941547B
• 公開（公告）日: 2018-07-27
• 發明（設計）人: D·王;P·特雷福納斯三世;山田晉太郎;K·M·奧康納
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/11
• 分類號: G03F7/11;H01L21/027;C08F220/18;C08G79/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種硬掩模組合物，所述組合物包括：

有機金屬化合物；

表面能為20-40erg/cm²的表面處理聚合物，所述表面處理聚合物包含選自羥基、被保護的羥基、被保護的羧基及其混合的表面處理基團；和

溶劑，

所述表面處理聚合物包括小于或等于20摩爾％單體，所述單體包括一個或多個表面處理基團，

其中所述有機金屬化合物選自：

()公式（1）的化合物

其中每個X獨立的選自二酮、C_2-20多元醇和C_1-20醇鹽；且M為第3族至第14族的金屬；

（）低聚物，所述低聚物包括含第3族至第14族金屬的側基；

（）公式（2）的化合物

其中R¹=H或CH₃；M=第3族至第14族的金屬；L為配體；n指的是配體的數量，且為1-4的整數；

（）公式（3）的化合物

其中R²=C_1-6烷基；M¹為第3族至第14族的金屬；R³=C_2-6亞烷基-X-或C_2-6次烷基-X-;每個X獨立的選自O和S；z為1-5的整數；L¹為配體；m 指的是配體的數量, 且為1-4的整數；p=2-25的整數；以及

（）它們的混合物。

2.權利要求1的組合物，其中所述表面處理聚合物包括被保護的羧基。

3.權利要求2的組合物，其中所述被保護的羧基包括具有季碳的酯，所述季碳與酯基的烷氧原子直接相連。

4.權利要求1的組合物，其中所述表面處理聚合物包括作為聚合單元的一種或多種含表面處理基團的單體，所述表面處理基團選自羥基、被保護的羥基、被保護的羧基和它們的混合物。

5.權利要求1的組合物，其中所述表面處理聚合物的含量為0.1-10wt%，以組合物的重量為基準。

6.權利要求1的組合物，其中所述表面處理基團選自被保護的羥基、被保護的羧基和它們混合物。

7.一種形成含氧金屬硬掩模層的方法，所述方法包括：

提供基體；

在所述基體表面上涂覆涂權利要求1的組合物的膜；

促使所述表面處理聚合物遷移到所述膜的表面；以及

然后固化所述膜，形成含氧金屬硬掩模層。

8.權利要求7所述的方法，其中固化的含氧金屬硬掩模層的水接觸角為55-70°。

9.權利要求7所述的方法，其不含有獨立的將含氧金屬硬掩模層與表面處理聚合物接觸的步驟。

10.權利要求7所述的方法，其中在不分解所述表面處理聚合物的溫度固化所述膜。

11.形成圖案化含氧金屬硬掩模的方法，所述方法包括：

提供基體；

在基體表面上涂覆組合物的膜，所述組合物包括有機金屬化合物、表面能為20-40erg/cm²的表面處理聚合物和溶劑，所述表面處理聚合物包括選自被保護的羥基、被保護的羧基和它們混合物的表面處理基團，所述表面處理聚合物包括小于或等于20摩爾％單體，所述單體包括表面處理基團；

促使表面處理聚合物遷移至膜表面；

然后固化所述膜，形成具有圖案化表面的含氧金屬硬掩模層，該表面具有不同表面能區域，

其中所述有機金屬化合物選自：

() 公式（1）的化合物

其中每個X獨立的選自二酮、C_2-20多元醇和C_1-20醇鹽；且M為第3族至第14族的金屬；

（）低聚物，所述低聚物包括含第3族至第14族金屬的側基；

（）公式（2）的化合物

其中R¹=H或CH₃；M=第3族至第14族的金屬；L為配體；n指的是配體的數量，且為1-4的整數；

（）公式（3）的化合物

其中R²=C_1-6烷基；M¹為第3族至第14族的金屬；R³=C_2-6亞烷基-X-或C_2-6次烷基-X-;每個X獨立的選自O和S；z為1-5的整數；L¹為配體；m 指的是配體的數量, 且為1-4的整數；p=2-25的整數；以及

（）它們的混合物。