[發(fā)明專利]盤驅(qū)動用的主軸馬達(dá)及盤驅(qū)動裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410151556.0 | 申請日: | 2011-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN103929003A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杉孝時(shí);米田朋廣;小林裕 | 申請(專利權(quán))人: | 日本電產(chǎn)株式會社 |
| 主分類號: | H02K5/167 | 分類號: | H02K5/167;H02K15/14;G11B19/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 黨曉林;王小東 |
| 地址: | 日本京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 驅(qū)動 主軸 馬達(dá) 裝置 | ||
本申請是申請?zhí)枮?01110433349.0、申請日為2011年12月21日、發(fā)明名稱為“主軸馬達(dá)及具有該主軸馬達(dá)的盤驅(qū)動裝置”的中國發(fā)明專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及盤驅(qū)動裝置用的主軸馬達(dá)。
背景技術(shù)
近年來,在硬盤驅(qū)動裝置等盤驅(qū)動裝置中,隨著盤的記錄密度的增加,要求高精度地控制盤的旋轉(zhuǎn)和頭部的移動等。在日本特開2006-40423號公報(bào)公開的HDD(硬盤驅(qū)動)中,將內(nèi)部的氣體設(shè)為氦氣或氫氣等低密度氣體,由此在主軸馬達(dá)旋轉(zhuǎn)時(shí)氣體對盤和頭部的阻力降低。由此,抑制盤和頭部的振動,能夠高精度地記錄數(shù)據(jù)。
可是,在安裝于HDD的主軸馬達(dá)(下面簡稱為“馬達(dá)”)中,存在基座是HDD的外殼的一部分的情況。如日本特開2006-40423號公報(bào)公開的那樣,當(dāng)在HDD內(nèi)部填充氦氣等氣體的情況下,由于例如氦氣分子極小,容易從HDD內(nèi)部向HDD外部泄漏。因此,在軸被固定在設(shè)于基座的貫通孔中的結(jié)構(gòu)中,不容易獲得基座與軸之間的固定區(qū)域的密閉性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性的第一方面的盤驅(qū)動用的主軸馬達(dá)在具有構(gòu)成內(nèi)部空間的外殼的盤驅(qū)動裝置中使用。盤驅(qū)動用的主軸馬達(dá)包括靜止部、基座部和旋轉(zhuǎn)部。靜止部具有沿軸向配置的軸。基座部具有供軸嵌入的貫通孔,并構(gòu)成外殼的一部分。旋轉(zhuǎn)部圍繞中心軸線相對于靜止部而旋轉(zhuǎn)。
在基座部的構(gòu)成貫通孔的內(nèi)周部與軸的下部之間具有固定區(qū)域。固定區(qū)域包括壓入?yún)^(qū)域和位于壓入?yún)^(qū)域的下側(cè)的粘接區(qū)域。在粘接區(qū)域中,在基座部的內(nèi)周部與軸的下部之間形成有密封間隙。
密封間隙的徑向的寬度隨著朝向上側(cè)而逐漸減小。并且,粘接劑存在于密封間隙的全周。
本發(fā)明的示例性的第二方面的盤驅(qū)動用的主軸馬達(dá)在具有構(gòu)成內(nèi)部空間的外殼的盤驅(qū)動裝置中使用。主軸馬達(dá)包括靜止部、基座部和旋轉(zhuǎn)部。靜止部具有沿軸向配置的軸。基座部具有供軸嵌入的貫通孔,并構(gòu)成外殼的一部分。旋轉(zhuǎn)部圍繞中心軸線相對于靜止部而旋轉(zhuǎn)。
在基座部的構(gòu)成貫通孔的內(nèi)周部與軸的下部之間具有固定區(qū)域。固定區(qū)域包括壓入?yún)^(qū)域和位于壓入?yún)^(qū)域的下側(cè)的粘接區(qū)域。在粘接區(qū)域中,在基座部的內(nèi)周部與軸的下部之間形成有密封間隙。
在軸的下部或者基座部的下側(cè)的開口配置有與密封間隙連接的凹部。粘接劑連續(xù)地存在于凹部和密封間隙中,并且粘接劑存在于密封間隙的全周。
本發(fā)明的示例性的第三方面的盤驅(qū)動用的主軸馬達(dá)在具有構(gòu)成內(nèi)部空間的外殼的盤驅(qū)動裝置中使用。主軸馬達(dá)包括靜止部、基座部和旋轉(zhuǎn)部。靜止部具有沿軸向配置的軸。基座部具有供軸嵌入的貫通孔,并構(gòu)成外殼的一部分。旋轉(zhuǎn)部圍繞中心軸線相對于靜止部而旋轉(zhuǎn)。
在基座部的構(gòu)成貫通孔的內(nèi)周部與軸的下部之間具有固定區(qū)域。固定區(qū)域包括壓入?yún)^(qū)域和位于壓入?yún)^(qū)域的下側(cè)的粘接區(qū)域。在粘接區(qū)域中,在基座部的內(nèi)周部與軸的下部之間形成有密封間隙。
粘接劑存在于密封間隙的全周。在密封間隙與壓入?yún)^(qū)域的邊界或者在密封間隙的壓入?yún)^(qū)域附近,沿著全周設(shè)置有徑向的寬度較大的間隙擴(kuò)寬部。
在軸的下部與基座部的內(nèi)周部之間或者在基座部內(nèi)設(shè)有將間隙擴(kuò)寬部和基座部的上表面?zhèn)鹊目臻g連通的連通路徑。
本發(fā)明的示例性的第四方面的盤驅(qū)動用的主軸馬達(dá)在具有構(gòu)成內(nèi)部空間的外殼的盤驅(qū)動裝置中使用。主軸馬達(dá)包括靜止部、基座部和旋轉(zhuǎn)部。靜止部具有沿軸向配置的軸。基座部構(gòu)成外殼的一部分。基座部包括供軸嵌入的貫通孔。旋轉(zhuǎn)部經(jīng)由軸承機(jī)構(gòu)圍繞中心軸線相對于靜止部而旋轉(zhuǎn)。
軸包括未貫通的孔部、第1連接路徑和第2連接路徑。未貫通的孔部從上端向下方延伸。第1連接路徑從孔部沿徑向延伸,連接軸承機(jī)構(gòu)的內(nèi)部和孔部。第2連接路徑從孔部沿徑向延伸,連接軸承機(jī)構(gòu)的下方的空間和孔部。
根據(jù)本發(fā)明,能夠防止外殼內(nèi)部的氣體向外殼外部流出。
參照附圖,基于后述的本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的具體論述,本發(fā)明上述以及其他的要素、構(gòu)件、步驟、特征以及優(yōu)點(diǎn)將會更加清楚。
附圖說明
圖1是表示第1實(shí)施方式的盤驅(qū)動裝置的圖。
圖2是表示馬達(dá)的圖。
圖3是表示軸承機(jī)構(gòu)的圖。
圖4是表示軸的下部附近的圖。
圖5是表示軸的下部附近的圖。
圖6是表示馬達(dá)的裝配流程的圖。
圖7是表示軸的下部附近的圖。
圖8是表示另一個(gè)示例的馬達(dá)的一部分的圖。
圖9是表示馬達(dá)的裝配流程的另一個(gè)示例的圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本電產(chǎn)株式會社,未經(jīng)日本電產(chǎn)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410151556.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





