[發(fā)明專利]太陽能電池以及用于生產(chǎn)太陽能電池的設(shè)備和方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410149093.4 | 申請(qǐng)日: | 2007-02-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104167464A | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 雷約·拉帕萊寧;韋莎·米呂邁基;拉塞·普利;亞里·魯圖;尤哈·梅基塔洛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 皮克迪昂有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 張英;王玉桂 |
| 地址: | 芬蘭赫*** | 國省代碼: | 芬蘭;FI |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 以及 用于 生產(chǎn) 設(shè)備 方法 | ||
1.一種通過激光燒蝕產(chǎn)生至少一個(gè)具有表面的層并將其用作太陽能電池的部件的方法,其特征在于,待產(chǎn)生的表面區(qū)域包括至少0.2dm2的面積并且涂敷是通過采用超短脈沖激光沉積來實(shí)施的,其中,脈沖激光束是用包括至少一面用于反射所述激光束的鏡的旋轉(zhuǎn)光學(xué)掃描器來掃描的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面區(qū)域是均勻表面區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述表面區(qū)域包括至少0.5dm2的面積。
4.一種太陽能電池,包括具有由激光燒蝕產(chǎn)生的表面的至少一個(gè)層,其特征在于,待產(chǎn)生的均勻表面區(qū)域包括至少0.2dm2的面積并且所述層是通過采用超短脈沖激光沉積而產(chǎn)生的,其中,脈沖激光束是用包括至少一面用于反射所述激光束的鏡的旋轉(zhuǎn)光學(xué)掃描器來掃描的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池,其特征在于,所述表面區(qū)域是均勻表面區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太陽能電池,其特征在于,所述均勻表面區(qū)域包括至少0.5dm2的面積。
7.一種用于生產(chǎn)太陽能電池的至少一個(gè)部件的設(shè)備,所述設(shè)備包括通過激光燒蝕產(chǎn)生具有表面的至少一個(gè)層的裝置,其特征在于,待產(chǎn)生的表面區(qū)域包括至少0.2dm2的面積并且所述設(shè)備包括通過采用超短脈沖激光沉積來提供層的裝置,其中,所述設(shè)備包括用于掃描脈沖激光束的旋轉(zhuǎn)光學(xué)掃描器,所述旋轉(zhuǎn)掃描器包括至少一面用于反射所述激光束的鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備,其特征在于,所述表面區(qū)域是均勻表面區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括用于在同一個(gè)室中生產(chǎn)同一個(gè)太陽能電池的至少兩個(gè)層的裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括用于在同一個(gè)室中對(duì)同一個(gè)太陽能電池的層或襯底進(jìn)行機(jī)械加工的裝置。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
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