[發明專利]一種電瓷瓷件的修復方法無效
| 申請號: | 201410148645.X | 申請日: | 2014-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN103922811A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發明(設計)人: | 劉要才;李蔚明;張虎生 | 申請(專利權)人: | 醴陵市陽東電瓷電器有限公司 |
| 主分類號: | C04B41/86 | 分類號: | C04B41/86 |
| 代理公司: | 株洲市奇美專利商標事務所 43105 | 代理人: | 肖美哲 |
| 地址: | 412000 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電瓷瓷件 修復 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種電瓷瓷件的修復方法,特別是涉及一種電瓷產品表面有缺陷以及電瓷產品為有缺陷的不良產品時,進行修復的工藝方法。
背景技術
電瓷生產過程中,每一個工序都會產生缺陷,有些工序產生的缺陷則不能修復,一般作為次品或者報廢。電瓷生產燒成工序是一種特殊工序,它能將各工序的所產生的隱性缺陷或者次品,在經過這一工序后能完全反映出來,電瓷生產過程中出現的隱性缺陷產品占到15至20%,如缺釉、薄釉、傘面小裂紋、粘砂、粘渣、斑點等缺陷,這些缺陷由于不影響產品的正常使用,但外觀存在缺陷的產品影響產品等級和企業的效益,而且增加了企業生產成本。目前,對有缺陷的不良電瓷產品一般采用有機材料進行修復,也有采用低溫釉料對有缺陷的地方進行局部修復;但是這兩種方法存在如下問題:一、采用有機材料修復,修補后,一是容易出現色差,二是容易脫落,現在很多工廠一般都不再采用。二、采用低溫釉料修復,前期準備要配色,這個工作量較大而且復雜,低溫燒成后由于修復釉與原來的釉膨脹系數不一致,容易產生修復釉的脫落,又成為不良品。總之,現階段大多數公司將這些不良品直接定為報廢品,不再使用。電瓷產品是用自然界中礦物配制,經過燒制而成的,就這樣定為廢品,實在是一種浪費。
發明內容
本發明的目的在于克服上述缺陷,提供一種有缺陷的不良產品的電瓷瓷件的修復方法;使其被修復的瓷件既能保持外觀與正常產品一致,又能使產品性能不發生變化;大大降低了企業生產成本,提高了企業的效益,減少了產品的次品率。
本發明的技術解決方案是:一種電瓷瓷件的修復方法,其特征在于所述的該修復方法是采用同顏色的釉料對選出表面有缺陷的瓷件進行修補,即該工藝方法包括瓷件處理及清洗、釉料準備、施釉修復和燒制而成,具體步驟如下:
A、瓷件處理及清洗:對選出表面有缺陷的瓷件,首先清除表面不需要的附著物,然后將瓷件清洗干凈,最后將瓷件晾干或烘干;
B、釉料準備:釉料采用有缺陷瓷件的同顏色釉料,將同顏色釉料調至濃度為55~60波美度;
C、施釉修復:將清洗晾干后的瓷件進行淋釉或浸釉,其中,淋釉是將清洗晾干后瓷件放置于淋釉機上,對瓷件表面有缺陷的部位進行淋釉;?浸釉是將清洗晾干后表面有缺陷的瓷件全部浸沒后,再將瓷件從釉漿中提出;施釉的釉層厚度為0.10~0.4mm;如果厚度不能達到上述要求,應適當提高釉漿的上釉濃度;
D、燒制:將施釉修復好的瓷件經烘干后與正常待燒產品一起混合燒制,或單獨燒制:
施釉修復好的瓷件與正常待燒產品一起混合燒制:是按正常待燒產品的燒成方法及溫度在隧道窯或梭式窯中燒成;
單獨燒制采用還原焰燒制或氧化焰燒制:其中,
還原焰單獨燒制:在隧道窯或者梭式窯中燒成,先用氧化焰燒至1000℃后,再調到還原焰繼續燒制,還原焰燒制溫度為1220℃~1280℃范圍內,再經自然降溫后即成;
氧化焰單獨燒制:在隧道窯或者梭式窯中燒成,氧化焰單獨燒制是全程以氧化氣氛一直溫度升至1220℃~1280℃范圍內,再經自然降溫后即成。
本發明是一種對表面有缺陷的瓷件進行修復的方法,它采用有缺陷產品的同顏色釉料對其進行施釉修復,通過隧道窯或者梭式窯中高溫燒成;大大降低了企業生產成本,提高了企業的效益,降低了次品率。
具體實施方式
???一種電瓷瓷件修復的工藝方法,其特征在于所述的該修復方法是采用同顏色的釉料對選出表面有缺陷的瓷件進行修補,即該工藝方法包括瓷件處理及清洗、釉料準備、施釉修復和燒制而成,具體步驟如下:
A、瓷件處理及清洗:對選出表面有缺陷的瓷件,首先清除表面不需要的附著物,然后將瓷件清洗干凈,最后將瓷件晾干或烘干;即瓷件處理及清洗是將缺釉、薄釉、傘面小裂紋、粘砂、粘渣、斑點等有缺陷的產品進行挑選,然后集中將這些缺陷產品中的粘砂、粘渣、斑點等多余的附屬物用工具處理掉;處理完畢后,再將瓷件進行清潔處理;清潔處理后的瓷件,最后晾干或者烘干。
B、釉料準備:釉料采用有缺陷瓷件的同顏色釉料,將同顏色釉料調至濃度為55~60波美度;
C、施釉修復:將清洗晾干后的瓷件進行淋釉或浸釉,其中,淋釉是將清洗晾干后瓷件放置于淋釉機上,對瓷件表面有缺陷的部位進行淋釉;?浸釉是將清洗晾干后表面有缺陷的瓷件全部浸沒后,再將瓷件從釉漿中提出;施釉的釉層厚度為0.10~0.4mm;如果厚度不能達到上述要求,應適當提高釉漿的上釉濃度;
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