[發(fā)明專利]一種鋰插層二氧化錳?氮化鈦納米管復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410148411.5 | 申請日: | 2014-04-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103985563B | 公開(公告)日: | 2017-05-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝一兵 | 申請(專利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01G11/50 | 分類號(hào): | H01G11/50;H01G11/86;H01G11/06 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32204 | 代理人: | 沈振濤 |
| 地址: | 211189 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鋰插層 二氧化錳 氮化 納米 復(fù)合材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種鋰插層二氧化錳-氮化鈦納米管復(fù)合材料,其特征在于:所述復(fù)合材料包括氮化鈦納米管、沉積在氮化鈦納米管內(nèi)部和氮化鈦納米管間隙中的鋰插層二氧化錳,氮化鈦納米管、沉積在氮化鈦納米管內(nèi)部和氮化鈦納米管間隙中的鋰插層二氧化錳形成同軸異質(zhì)納米管陣列結(jié)構(gòu);所述氮化鈦納米管壁厚為10~20nm、直徑為80~150nm、高度為900~1100nm,相鄰氮化鈦納米管的間隙為30~60nm;
所述復(fù)合材料的制備方法包括以下步驟:
(1)氮化鈦納米管電極基體材料制備:以氟化銨、磷酸和乙二醇混合水溶液為反應(yīng)電解質(zhì),混合水溶液中,氟化銨的濃度為0.1-0.3mol/L,磷酸濃度為0.4-0.6mol/L,乙二醇濃度為8-10mol/L;以鈦片為工作電極,鉑片為對電極,采用陽極氧化法以25-35V的工作電壓反應(yīng)2-4h制得二氧化鈦納米管陣列;二氧化鈦納米管陣列先在空氣中以400-500℃煅燒1-3h,再在氨氣氣氛中以750-850℃煅燒1-3h得氮化鈦納米管電極基體材料;
(2)采用醋酸錳和硫酸鋰的混合水溶液為反應(yīng)電解質(zhì)溶液,其中,醋酸錳的濃度為0.01-0.03mol/L,硫酸鋰的濃度為0.8-1.2mol/L以氮化鈦納米管電極基體材料作為電極基體材料并作為工作電極,以鉑片為輔助電極,以飽和甘汞電極為參比電極,在三電極電化學(xué)反應(yīng)體系中采用電化學(xué)插層-沉積反應(yīng)合成方法制備鋰插層二氧化錳-氮化鈦納米管復(fù)合材料;
所述電化學(xué)插層-沉積反應(yīng)合成方法為兩步法,包括差分脈沖伏安法和循環(huán)伏安法;具體包括以下步驟:
(1)差分脈沖伏安法:設(shè)定初始電位為-0.4V,終止電位為1.3V,電位增量為0.004V/s,脈沖幅度0.02V,脈沖寬度0.05s,脈沖周期為5s;
(2)循環(huán)伏安法:設(shè)定初始電位為-0.4V,終止電位為1.3V,掃描速率為0.01V/s,掃描段數(shù)為4。
2.權(quán)利要求1所述的鋰插層二氧化錳-氮化鈦納米管復(fù)合材料在鋰離子超級(jí)電容器制備中的應(yīng)用,其特征在于:所述鋰離子超級(jí)電容器正負(fù)電極材料均為鋰插層二氧化錳-氮化鈦納米管復(fù)合材料,電解質(zhì)為液態(tài)相鋰離子電解質(zhì)或固態(tài)相鋰離子電解質(zhì);所述液態(tài)相鋰離子電解質(zhì)為摩爾濃度為1.0~3.0mol/L的氫氧化鋰水溶液、摩爾濃度為1.0~3.0mol/L的硫酸鋰水溶液或摩爾濃度為0.1~1.0mol/L的高氯酸鋰碳酸丙烯酯-乙腈溶液,采用微孔纖維素酯薄膜作為電極隔膜;所述固態(tài)相鋰離子電解質(zhì)為質(zhì)量百分比濃度為20~80%的高氯酸鋰的聚乙烯醇凝膠或高氯酸鋰的聚甲基丙烯酸甲酯凝膠。
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