[發明專利]一種平面圖面隱形的投影照明方法及投影照明設備

有效

• 申請號: 201410143839.0
• 申請日: 2014-04-11
• 公開（公告）號: CN103901708A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 姚其;涂春光
• 申請（專利權）人: 深圳大學
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G03B21/14;G03B21/00
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 陳健

技術領域

本發明涉及投影照明技術，尤其涉及一種平面圖面隱形的投影照明方法及投影照明設備。

背景技術

投影照明主要是將影像相對精確地投射到幕布或是物體上，從而在幕布或是物體上成像的技術。目前的投影照明技術主要在于投影設備的研究上，而被投影面主要是找白色幕布、墻壁或是反射率相對均勻的物體作為被投影面。傳統的投影照明技術與顯示技術具有相通之處，其差別主要在尺度上。投影照明在更大的尺度上進行投影，因此相對精確度要較顯示技術略差。

投影照明技術與顯示技術中的隱形，一般分為兩類技術，一類是光穿過物體后，使光仍不改變傳播方向，這通常是較難實現的技術，一般只能從某些角度達到這樣的效果；另一類是使物體隱藏于背景中，從而不凸顯出來。

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于提供一種可以使物體隱藏于背景中的平面圖面隱形的投影照明方法及投影照明設備。

本發明是這樣實現的，一種平面圖面隱形的投影照明方法，包括以下步驟：

步驟1：將平面圖面進行區塊劃分，并根據劃分好的各個平面圖面區塊確定投影照明模塊的位置和對投影照明模塊的投影區塊進行校正；

步驟2：對所述投影照明模塊中的各個模組設定至少三個窄波段LED光源，所述窄波段LED光源分別以不同的發射光譜強度投射到所述平面圖面上的所有平面圖面區塊，并確定各個所述平面圖面區塊在不同的發射光譜強度下的反射率；

步驟3：根據各個所述平面圖面區塊對投射光的反射率重新設定至少三個窄波段LED光源的發射光譜強度，使被投影的各個平面圖面區塊反射的色度呈現預期的色度或與背景色度一致。

進一步地，所述步驟1中平面圖面進行區塊劃分時，以均勻等分的方式從平面圖面左上角開始分塊，橫向分為m塊，縱向分為n塊；所述投影照明模塊的投影區塊通過校正后，與平面圖面區塊一一對應。

進一步地，所述窄波段LED光源的光譜半寬度小于30nm，峰值波長分布在可見光譜范圍內。

進一步地，所述步驟2中，采用光敏探測器測量窄波段LED光源以不同的發射光譜強度投射到各個平面圖面區塊時反射回來的反射強度，根據發射光譜強度和所述反射強度確定相應的反射率。

進一步地，根據測量出來的反射強度和以下公式可分別計算出不同發射光譜強度下的反射率，P(λ₁)₁ρ(λ₁)+P(λ₂)₁ρ(λ₂)+P(λ₃)₁ρ(λ₃)=I₁，

P(λ₁)₂ρ(λ₁)+P(λ₂)₂ρ(λ₂)+P(λ₃)₂ρ(λ₃)=I₂，

P(λ₁)₃ρ(λ₁)+P(λ₂)₃ρ(λ₂)+P(λ₃)₃ρ(λ₃)=I₃，其中，P為發射光譜強度，λ₁、λ₂和λ₃為三個窄波段LED光源的發射光的峰值波長，ρ為反射率，I₁、I₂和I₃均為測量得到的反射強度。

本發明還提供一種平面圖面隱形的投影照明設備，包括投影照明模塊、光敏探測器和區塊區分及校正設備；

所述區塊區分及校正設備將平面圖面進行區塊劃分，并根據劃分好的各個平面圖面區塊確定投影照明模塊的位置和對投影照明模塊的投影區塊進行校正；

所述投影照明模塊分為多個模組，每個模組設定至少三個窄波段LED光源，所述窄波段LED光源分別以不同的發射光譜強度投射到所述平面圖面上的所有平面圖面區塊；

所述光敏探測器用于測量窄波段LED光源以不同的發射光譜強度投射到各個平面圖面區塊時反射回來的反射強度，并根據所述反射強度和發射光譜強度確定各個所述平面圖面區塊在不同的發射光譜強度下的反射率；