[發明專利]一種分級結構的氧化銅納米片的合成方法有效
| 申請號： | 201410143837.1 | 申請日： | 2014-04-10 |
| 公開（公告）號： | CN103910374A | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發明（設計）人： | 殷竟洲;張宇;李榮清;張維光;仲慧;蔣正靜;盛振環;毛廣秀 | 申請（專利權）人： | 淮陰師范學院 |
| 主分類號： | C01G3/02 | 分類號： | C01G3/02;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 223300 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 分級 結構 氧化銅 納米 合成 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種分級結構的氧化銅納米片的合成方法，其特征在于：所述的合成方法的具體步驟如下：
（1）首先將二水合氯化銅，加入到四丁基氫氧化銨中，二水合氯化銅和四丁基氫氧化銨的摩爾比是1:1-15。攪拌均勻，然后在室溫下，密閉放置20-30小時；
（2）然后進行離心分離，液相回收，固相用蒸餾水洗滌三次，再用無水乙醇洗滌三次；
（3）最后放在烘箱中，在45-55℃下，烘干，即得分級結構的氧化銅納米片。
2.如權利要求1所述的合成方法，其特征在于：步驟（1）中，四丁基氫氧化銨的質量濃度為10%。
3.如權利要求1所述的合成方法，其特征在于：步驟（1）中，二水合氯化銅和四丁基氫氧化銨的摩爾比是1:10。
4.如權利要求1所述的合成方法，其特征在于：步驟（1）中，密閉放置24小時。
5.如權利要求1所述的合成方法，其特征在于：步驟（3）中，在50℃下，烘干。
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