[發明專利]摩擦處理方法

無效

• 申請號: 201410143730.7
• 申請日: 2014-04-10
• 公開（公告）號: CN104102049A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 村上大
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

技術領域

本發明涉及一種使用摩擦輥(rubbing?roller)形成配向膜的摩擦處理方法，尤其涉及一種當制造液晶顯示裝置的光學補償膜(film)時對配向膜形成材料層的表面進行摩擦處理的摩擦處理方法。

背景技術

液晶顯示裝置中，使用用于擴大視角的光學補償膜作為偏光板用構件。一般而言，該光學補償膜是利用如下方法制造：在透明樹脂制的帶狀可撓性支撐體(以下，也稱作“網(web)”)的表面上涂布配向用涂布液且使其干燥后形成配向膜形成材料層之后，對其表面實施摩擦處理而形成配向膜；而且，在配向膜上涂布液晶性涂布液且使其干燥后形成液晶層，之后使其硬化。

摩擦處理是液晶分子的代表性的配向處理方法，且是通過以下方法進行：在網表面上形成配向膜形成材料層，使卷繞著摩擦用布質材料的摩擦輥高速旋轉而對該配向膜形成材料層的表面進行摩擦。

近年來，就液晶顯示裝置而言，裝置的大型化、高亮度化得到進步，且要求降低制造成本(cost)。隨之，要求液晶顯示裝置的構件即偏光板也大尺寸(size)化、高功能化、品質提高，隨之，光學補償膜也寬幅化、長條化。而且，尤其是，因液晶顯示裝置的高亮度化、高精細化，使得對液晶顯示裝置的顯示品質的下降產生影響的亮點尺寸變小。因此，要求除去會成為亮點的原因的微小的塵埃(除塵)。

因此，專利文獻1中，提出一種能通過高效率地除去摩擦處理中產生的塵埃、且實現摩擦輥的長壽命化來提高生產性的摩擦處理方法。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2011-123120號公報

發明內容

然而，即使如專利文獻1那樣進行摩擦處理也難以防止亮點缺陷。

本發明是鑒于所述情況而完成的，其目的在于提供一種能大幅地抑制亮點缺陷的摩擦處理方法。

為了達成所述目的，本發明提供一種摩擦處理方法，包括：離線除塵步驟，在離線狀態下，使刷輥(brush?roller)一面左右振動一面旋轉接觸于外周裝設著摩擦布的摩擦輥，從而除去附著在摩擦布上的塵埃；及配向膜形成步驟，一面使具有配向膜形成材料層的基材連續移行，一面使用已在離線除塵步驟中除去塵埃的摩擦輥來形成配向膜。

根據本發明，在離線狀態下，使刷輥一面左右(輥寬度方向)振動一面旋轉接觸于外周裝設著摩擦布的摩擦輥，從而除去附著在摩擦布上的塵埃，在在線(online)的狀態下，使用該摩擦輥形成配向膜，由此，能大幅地抑制亮點缺陷。另外，通過使刷輥左右振動，也能抑制因附著在刷輥上的塵埃而使摩擦布的性能部分地劣化的情形。

本發明中，優選的是，基材為帶狀可撓性支撐體。

而且，本發明中，優選的是，刷輥相對于摩擦輥的旋轉方向與使用摩擦輥形成配向膜的旋轉方向相同。只要刷輥相對于摩擦輥的旋轉方向與使用摩擦輥形成配向膜的旋轉方向相同，那么就能使布紋一致。

而且，本發明中，優選的是，配向膜形成材料層是以改性聚乙烯醇為主成分而形成。尤其是在涂布改性聚乙烯醇(改性PVA(Polyvinyl?Alcohol))而成為配向膜的光學膜中，配向膜原材料(改性PVA)帶負電，與此相對，適宜用作摩擦布的原材料的疏水性合成纖維帶正電，所以，因摩擦處理而產生的由配向膜引起的塵埃在靜電相互作用下容易附著在摩擦布上，所以，本發明特別有效。

[發明的效果]

根據本發明的摩擦處理方法，能大幅地抑制亮點缺陷。

附圖說明

圖1是表示光學補償膜的制造線的說明圖。

圖2是示意性地表示本發明的摩擦處理裝置的構成圖。

圖3是示意性地表示從正面觀察本發明的摩擦處理裝置的一部分的構成圖。

[符號的說明]

10：光學補償膜的制造線

11、11A、11B：棒涂布裝置

15A、15B：除塵機

16、16a：網

66：送出機

67：卷取機

68：導輥

70、70A、70B：摩擦處理裝置

71A、71B：除塵機

72、72A、72B：摩擦輥

76、76A、76B：干燥區

78、78A、78B：加熱區

80：紫外線燈

81：送出機

82：卷取機

84：輥臺(檢查裝置)

84A、84B：輥臺

86、86A、86B：支承輥