[發明專利]一種電極盤及其制備方法和基于此電極盤的電化學流動池

在審

• 申請號: 201410143472.2
• 申請日: 2014-04-10
• 公開（公告）號: CN103954664A
• 公開（公告）日: 2014-07-30
• 發明（設計）人: 周明;曾映;彭國慶;王錚
• 申請（專利權）人: 深圳普門科技有限公司
• 主分類號: G01N27/30
• 分類號: G01N27/30;G01N27/28
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 唐致明

1.一種用于電化學流動池的電極盤，其特征在于：包括同平面設置的工作電極、對電極和絕緣介質，所述工作電極設置在電極盤的中央位置，所述對電極環繞設置在工作電極的周沿，所述工作電極與對電極之間設置有絕緣介質。

2.根據權利要求1所述的一種用于電化學流動池的電極盤，其特征在于：所述對電極外側設置有環繞在其周沿的絕緣介質。

3.根據權利要求1所述的一種用于電化學流動池的電極盤，其特征在于：該種電極盤的厚度大于或等于10um。

4.根據權利要求1所述的一種用于電化學流動池的電極盤，其特征在于：所述的工作電極的橫截面為圓形、多邊形或其他任意幾何形狀，所述的對電極為圓環、多邊形環或其他不規則形體。

5.根據權利要求1所述的一種用于電化學流動池的電極盤，其特征在于：所述的工作電極和對電極為金屬、碳或其他電極材料，所述工作電極與對電極為相同材料或不同材料，所述的絕緣介質為塑料、陶瓷或其他絕緣材料。

6.根據權利要求1所述的一種用于電化學流動池的電極盤，其特征在于：所述工作電極和對電極的電極面積都大于或等于2mm2。

7.一種用于電化學流動池的電極盤的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

步驟a：形成截面與權利要求1-6任一項所述電極盤橫截面結構和組成相同的電極柱體；

步驟b：用工具將上述的電極柱體徑向切割成厚度大于或等于10um的電極盤。

8.一種用于電化學發光的電化學流動池，其特征在于：包括支架體、設置在所述支架體上部的上蓋體和設置在所述上蓋體上方且用于光電檢測的光電檢測器，所述支架體和上蓋體之間配合設置有截面呈長橢圓狀且用于電化學發光反應的腔體，所述支架體上開設有分別連通到上述腔體兩端的入流管道和出流管道，所述入流管道、出流管道與腔體互通并配合形成一流體通道，所述腔體的下方設置有權利要求1-6任一項所述的電極盤，所述支架體上還設置有連通于上述出流管道的參比電極。

9.根據權利要求8所述的一種用于電化學發光的電化學流動池，其特征在于：所述電極盤設置在支架體上對應的安裝位上，上述的腔體于電極盤的上表面延伸通過。

10.根據權利要求8或9所述的一種用于電化學發光的電化學流動池，其特征在于：所述的上蓋體上設有一光學透明的檢測窗，所述檢測窗位于所述腔體上方，上述的光電檢測器位于該檢測窗上方并用于檢測檢測窗下方腔體內的流體物質或隨流體帶入腔內的固體物質。

11.根據權利要求10所述的一種用于電化學發光的電化學流動池，其特征在于：所述的支架體在其底部中央位置向上延伸設置有用于磁鐵上下往返運動的容置空間，所述容置空間位于上述電極盤的下方。