[發(fā)明專利]Pt?Al?Hf/Zr涂層及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410143291.X | 申請日： | 2010-05-18 |
| 公開（公告）號： | CN103921492B | 公開（公告）日： | 2017-05-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | K·S·莫菲 | 申請（專利權(quán)）人： | 豪梅特公司 |
| 主分類號： | B32B15/01 | 分類號： | B32B15/01;C23C16/12;C23C16/14;C22C16/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人： | 李躍龍 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | pt al hf zr 涂層 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種包括在Ni合金基材的表面區(qū)域之上或之內(nèi)引入中間元素的方法，該Ni合金基材對另一合金化元素具有低溶解度，隨后通過在沉積條件下在中間元素中引入所述另一合金化元素以形成包含單一相的層區(qū)域，該單一相含有所述中間元素和所述另一合金化元素和Ni，其中該中間元素包含Pt和/或Pd，且所述另一合金化元素包含Hf，且其中所述單一相是Hf2Pt3Nix，其中x為5或更小；或者是HfPdNix，其中x為4或更小,不是存在于基材中的γ或γ’鋁化物相。
2.權(quán)利要求1的方法，其中該中間元素包含Pd或Pt，所述另一合金化元素包含Hf。
3.權(quán)利要求1的方法，其中以2mg/cm2-8mg/cm2的量提供Pt。
4.權(quán)利要求1的方法，其中利用化學(xué)氣相沉積條件在中間元素中引入所述另一合金化元素，所述化學(xué)氣相沉積條件采用含有所述另一合金化元素的涂覆氣體和含有Al氣體的涂覆氣體。
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