[發明專利]用于真空鍍膜機擴散泵的水溫控制循環冷卻系統

有效

• 申請號: 201410143119.4
• 申請日: 2014-04-10
• 公開（公告）號: CN103911588A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 張顯;常進
• 申請（專利權）人: 西安電子科技大學
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/54
• 代理公司: 陜西電子工業專利中心 61205
• 代理人: 田文英;王品華

技術領域

本發明屬于電子技術領域，更進一步涉及電子設備技術領域中的一種用于真空鍍膜機油擴散泵的水溫控制循環冷卻系統。本發明可用于科學研究與教學實驗室中的真空鍍膜實驗。

背景技術

在使用真空鍍膜設備制備薄膜材料時，由于必須達到一定的真空度時才可以進行鍍膜過程，普遍采用油擴散泵來實現真空鍍膜的真空條件。冷卻系統是保證油擴散泵正常工作的重要條件，在真空鍍膜裝置上也是一個極為重要的系統。用于真空鍍膜的冷卻系統通常采用兩種方式：一種是真空鍍膜設備直接與自來水管連接，水管中的水通過自壓進入真空鍍膜設備冷卻系統，經過鍍膜設備冷卻用后的水通入實驗室排水管道；另一種是采用有制冷功能冷卻設備，冷卻設備具有制冷功能，可以對水進行強制降溫處理，可以保證使用的水處于某一設定的溫度。使用時冷卻設備中一定溫度的水進入真空鍍膜設備的需要散熱降溫部分，完成降溫任務后進入冷卻設備，制冷機對返回的水進行強制降溫。前一種方式無外設冷卻設備，使用方便，但對水的浪費極大；后一種方式水的用量少，反復循環使用，沒有水的浪費，但有外設制冷裝置，制冷機由室內設備與室外機組成，制冷設備復雜，同時專用的制冷機由于要使用大量的氟利昂作為冷卻劑，會對環境造成污染。

西安電子科技大學擁有的專利技術“真空鍍膜機擴散泵的循環水冷卻系統”（專利號CN201010173328.5，授權公告號CN101831609A）公開了一種適用于真空鍍膜機擴散泵的冷卻系統。該系統包括兩個水箱、水泵、真空鍍膜設備及控制水閥，該一號水箱底端出水管道依次經過第一水閥、第一水泵和第二水閥，接到真空鍍膜機的冷卻水進水口，形成真空鍍膜機的冷卻水進水管路，一號水箱底端出水管道接到二號水箱底端出水管道，形成排水管路，一號水箱的進水管道依次經過第四水閥和第二水泵，接到二號水箱的底端出水管道，形成從二號水箱到一號水箱的水流通路；該二號水箱的頂部入水管道經過第三水閥接到設備的出水口，形成從真空鍍膜機到二號水箱的水流通路，實現水的循環。該系統雖然很好的避免了水浪費和環境污染，但是，該專利技術仍然存在的不足是：該系統并不能保證冷卻系統中的冷卻水溫是否低于真空鍍膜設備正常工作的安全閾值。一旦循環水溫超過真空鍍膜設備正常工作的安全溫度界限，則將損壞該真空鍍膜設備；該系統將應急用水直接排放掉，浪費了應急水。

發明內容

本發明的目的在于克服上述現有技術存在的缺陷，提出一種用于真空鍍膜機油擴散泵的水溫控制循環冷卻系統，用來精確控制真空鍍膜設備循環冷卻水的水溫以及更好地節約水資源。

為實現上述目的，本發明的具體思路是，在西安電子科技大學擁有的專利技術“真空鍍膜機擴散泵的循環水冷卻系統”（專利號CN201010173328.5，授權公告號CN101831609A）的基礎上新增了測溫報警裝置和一個儲水罐兩個部分。測溫報警裝置是基于51單片機實現其功能，51單片機上的溫度傳感器模塊采用DS18B20防水溫度傳感器監測循環系統中冷卻水的實時水溫；報警模塊采用蜂鳴器用于及時報警；繼電器模塊采用閥門控制繼電器，用于單片機控制循環水路的電磁閥門開或閉。儲水罐是一個儲水裝置，用來儲存進入真空鍍膜設備的應急用水。

本發明包括兩個循環水存儲容器一號水箱和二號水箱、儲水罐、水流回路管道、水泵、真空鍍膜設備、控制水閥、導線和測溫報警裝置。

一號水箱的底端出水管道a依次經過經過第一水閥、第一水泵M₁、第三水閥與真空鍍膜機進水管道相連，形成真空鍍膜機的冷卻水進水管路。水泵M₁和第三水閥之間的三通接口直角端經手動電磁水閥與自來水口相連，形成應急進水的進水入口。

一號水箱底端出水管道b與二號水箱的底端出水管道c通過一個三通接口直角端與第八水閥相連，形成排水管路。一號水箱的進水管道f經過第七水閥、水泵M₂和二號水箱的出水管道d相連，形成從二號水箱到一號水箱的水流通路。二號水箱頂端入水管道e經過一個兩位三通電磁閥、第五水閥與真空鍍膜機的出水口相連，形成從真空鍍膜機到二號水箱的水流通路。

二號水箱進水管道e和儲水罐進水管道g通過兩位三通電磁閥相連,形成應急水進水管路。排水管道通過第九水閥與儲水罐的出水管道h連接，形成應急水的排水管路。真空鍍膜設備的冷卻水出水口處安裝一個測溫報警裝置，該裝置分別通過導線與手動電磁閥和兩位三通電磁閥相連接。