[發(fā)明專利]沙漏型孔道核孔濾膜及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410142618.1 | 申請日: | 2014-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN103908901A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莫丹;曹殿亮;劉杰;袁平;姚會軍;段敬來;劉建德;張勝霞 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院近代物理研究所 |
| 主分類號: | B01D71/06 | 分類號: | B01D71/06;B01D69/02;B01D67/00 |
| 代理公司: | 蘭州振華專利代理有限責(zé)任公司 62102 | 代理人: | 張真 |
| 地址: | 730000 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沙漏 孔道 濾膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種沙漏型孔道核孔濾膜,其特征在于包括在聚合薄膜上有重離子輻照蝕刻形成的核孔,核孔孔道剖面為盅底內(nèi)孔相連通的兩個盅形,呈沙漏型;外孔孔徑范圍2-10μm,內(nèi)孔孔徑范圍0.2-3μm。
2.如權(quán)利要求1所述的沙漏型孔道核孔濾膜,其特征在于所述的聚合薄膜為PET或PC聚酯薄膜,厚度為10-30μm。
3.一種沙漏型孔道核孔濾膜的制備方法,其特征在于步驟包括有:
(1)采用高能加速器提供的重離子對PET或PC薄膜進(jìn)行輻照,離子能量5-50MeV/u;薄膜厚度為10-30μm,輻照的注量為1×105-5×107/cm2;離子完全穿透薄膜,形成柱狀的潛徑跡;
(2)放入蝕刻液中進(jìn)行第一次蝕刻,蝕刻液為5-9Mol/L的NaOH,其中溶劑采用甲醇和水的混合溶液,甲醇含量為10%-80%,蝕刻溫度為15℃-25℃;蝕刻時間為5-40分鐘;
(3)完成步驟(2)后,將薄膜清洗晾干;
(4)將晾干后的薄膜置入恒溫箱中退火,加熱溫度為100-200℃,并保持0.5-2小時,然后自然冷卻;
(5)再次放入步驟(2)所述的蝕刻液中進(jìn)行蝕刻,蝕刻溫度為15℃-25℃;蝕刻時間為5-40分鐘;
(6)將蝕刻后的薄膜進(jìn)行清洗晾干。
4.如權(quán)利要求3所述沙漏型孔道核孔濾膜的制備方法,其特征在于所述的高能加速器提供的離子為Kr、Ar、Xe、Bi離子。
5.如權(quán)利要求3所述的沙漏型孔道核孔濾膜的制備方法,其特征在于步驟(3)和步驟(5)所述的溶劑還包括水溶液或含量10%-80%的異丙醇、乙二醇、丙三醇分別與水的混合溶液。
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