[發明專利]具有雙反射鏡和凹槽形結構的原子氣體腔器件及其制造方法

無效

• 申請號: 201410141911.6
• 申請日: 2014-04-10
• 公開（公告）號: CN103941577A
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 許磊;王光池;鄭林華;劉建勇
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第三十八研究所
• 主分類號: G04F5/14
• 分類號: G04F5/14;B81B1/00;B81C1/00;B81C3/00
• 代理公司: 合肥金安專利事務所 34114
• 代理人: 金惠貞

1.具有雙反射鏡和凹槽形結構的原子氣體腔器件，其特征在于：包括硅片和玻璃片，所述硅片的一側面設有凹槽，凹槽內底部設有下反射鏡；所述玻璃片的一側面設有上反射鏡；硅片和玻璃片通過鍵合形成原子氣體腔器件，玻璃片上的上反射鏡對應位于硅片的凹槽內，且與下反射鏡對應。

2.如權利要求1所述的具有雙反射鏡和凹槽形結構的原子氣體腔器件，其特征在于：所述凹槽的橫截面為倒梯形，凹槽為濕法腐蝕形成，硅片的類型為（100）型硅片，且腐蝕形成的凹槽的側壁和玻璃片的夾角為54.7度。

3.如權利要求2所述的具有雙反射鏡和凹槽形結構的原子氣體腔器件，其特征在于：所述凹槽的寬度W為倒梯形的橫截面的底面寬度，且為硅片厚度H的兩倍以上。

4.制備如權利要求1所述的具有雙反射鏡和凹槽形結構的原子氣體腔器件的制造方法，其特征在于具體制備操作步驟如下：

1）.在硅片上制作凹槽

選擇（100）型的硅片，利用二氧化硅作為掩膜層進行各向異性濕法腐蝕，在硅片的一側面上形成一百個以上橫截面為倒梯形的凹槽；

2）.在玻璃上制作反射鏡

采用蒸發工藝或濺射工藝，利用硬掩模或剝離技術，在玻璃片的一側面上制作一百個以上的金屬膜反射鏡，即上反射鏡；在硅片上的每個凹槽的底部制作一百個以上的金屬膜反射鏡，即下反射鏡；

3）.硅-玻璃鍵合

進行硅-玻璃鍵合，同時通入堿金屬蒸汽和緩沖氣體，使硅片和玻璃片密封形成原子氣體腔器件；

4）.劃片

以硅片上的凹槽為單元，將整個硅片進行劃分，形成一百個以上單個的原子氣體腔器件。

5.如權利要求4所述的制造方法，其特征在于：步驟3）所述堿金屬蒸汽為銣蒸汽或銫蒸汽，所述的緩沖氣體為85%的氮氣、10%的氫氣和5%的二氧化碳的混合氣體。