[發明專利]一種生成pattern的方法及一種RIP有效
| 申請號： | 201410141631.5 | 申請日： | 2014-04-09 |
| 公開（公告）號： | CN104978229B | 公開（公告）日： | 2018-07-20 |
| 發明（設計）人： | 馬良 | 申請（專利權）人： | 北大方正集團有限公司;北京北大方正電子有限公司 |
| 主分類號： | G06F9/46 | 分類號： | G06F9/46 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 李迪 |
| 地址： | 100871 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 生成 pattern 方法 rip | ||
1.一種生成pattern的方法，其特征在于，該方法包括：
S1：根據pattern資源計算出pattern cell的平鋪位置和pattern cell的平鋪次數，具體包括：
S11：獲取pattern資源；
S12：從所述pattern資源中獲取并保存pattern cell的轉換矩陣CTM；
S13：根據所述CTM計算出pattern cell的平鋪位置；
S14：根據所述pattern cell的平鋪位置和所述pattern資源中pattern cell的平鋪間隔計算出pattern cell的平鋪次數；
S2：判斷是否同時滿足pattern為非透明pattern且每個pattern cell的大小沒有超過預設值，如果是，則執行S3，否則執行S4；
S3：將每個pattern cell直接展開，根據所述pattern cell的平鋪位置和所述patterncell的平鋪次數進行平鋪；
S4：創建所有pattern cell共用的光柵化頁面，對每個pattern cell進行透明處理，根據所述pattern cell的平鋪位置和所述pattern cell的平鋪次數進行平鋪，包括：
S41：獲取當前輸出頁面的寬高，根據該輸出頁面的寬高對pattern cell的邊界進行剪裁；
S42：根據剪裁后的pattern cell的邊界和該pattern cell對應的CTM，計算patterncell相對于子頁面的偏移量，將該偏移量設置到CTM中；
S43：創建透明組鏈表，設置pattern cell對應項的透明參數并將該pattern cell對應項加入透明組鏈表中；
S44：根據透明組鏈表設置pattern cell共用的光柵化頁面的透明參數；
S45：根據CTM中pattern cell相對于子頁面的原點的偏移量和所述光柵化頁面中的透明參數生成pattern cell點陣；
S46：根據所述CTM和所述pattern cell點陣對pattern cell進行平鋪。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述S43具體包括：
根據所述pattern資源中的透明屬性設置pattern cell對應項的透明參數。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，
在S45之前還包括：創建轉換矩陣鏈表，將每個CTM存入到轉換矩陣鏈表中；
S45還包括：從所述轉換矩陣鏈表中獲取CTM。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述預設值為16MB。
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