[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體感光單元及其半導(dǎo)體感光單元陣列有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410140574.9 | 申請日: | 2014-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN104157658B | 公開(公告)日: | 2017-05-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉偉;劉磊;王鵬飛 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州東微半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司32200 | 代理人: | 樓然 |
| 地址: | 215021 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體 感光 單元 及其 陣列 | ||
1.一種半導(dǎo)體感光單元,它包括在第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體襯底內(nèi)設(shè)有第一導(dǎo)電型第一端和第二導(dǎo)電型第二端的感光二極管,設(shè)有第二導(dǎo)電型的第一源極和第一漏極、控制所述第一源極和第一漏極之間的第一電流溝道區(qū)開啟或關(guān)閉的第一導(dǎo)電型的浮柵、以及通過電容耦合作用于所述浮柵上的第一控制柵極的浮柵晶體管,其特征在于所述感光二極管與浮柵晶體管之間還設(shè)有選通MOS管,該選通MOS管設(shè)有第一導(dǎo)電型的第二源極和第二漏極、以及控制所述第二源極和第二漏極之間的第二電流溝道區(qū)開啟或關(guān)閉的第二控制柵極,該選通MOS管的第二漏極與所述感光二極管的第一端相連接,該選通MOS管的第二源極與所述浮柵晶體管的浮柵相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述感光二極管為同質(zhì)結(jié)二極管或異質(zhì)結(jié)二極管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述浮柵至少部分凹陷在所述半導(dǎo)體襯底內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述浮柵至少部分凹陷在所述半導(dǎo)體襯底內(nèi),第一控制柵極至少部分凹陷在所述半導(dǎo)體襯底內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第二控制柵極至少部分凹陷在所述半導(dǎo)體襯底內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型為p型、第二導(dǎo)電型為n型,所述選通MOS管的第二漏極與所述感光二極管的陽極相連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型為n型、第二導(dǎo)電型為p型,所述選通MOS管的第二漏極與所述感光二極管的陰極相連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型為p型、第二導(dǎo)電型為n型,所述選通MOS管的第二漏極與所述感光二極管的陽極相連接,所述浮柵晶體管的第一漏極與所述感光二極管的陰極相連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型為n型、第二導(dǎo)電型為p型,所述選通MOS管的第二漏極與所述感光二極管的陰極相連接,所述浮柵晶體管的第一漏極與所述感光二極管的陽極相連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體襯底內(nèi)設(shè)有的第二導(dǎo)電型的摻雜阱,該第二導(dǎo)電型的摻雜阱內(nèi)設(shè)有第二電流溝道區(qū),該第二電流溝道區(qū)的兩側(cè)的摻雜阱內(nèi)分別設(shè)有與所述第二電流溝道區(qū)相連接的第一導(dǎo)電型的擴(kuò)散區(qū)和感光區(qū),該第二電流溝道區(qū)上依次設(shè)有第三層絕緣薄膜和第二控制柵極。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型的感光區(qū)內(nèi)設(shè)有第二導(dǎo)電型的釘扎層。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體襯底內(nèi)設(shè)有第一電流溝道區(qū);該第一電流溝道區(qū)的兩側(cè)的半導(dǎo)體襯底內(nèi)分別形成的與第一電流溝道區(qū)相連接的第二導(dǎo)電型的第一源極和第一漏極;該半導(dǎo)體襯底內(nèi)設(shè)有將所述第一電流溝道區(qū)、第一漏極、第一源極與第二導(dǎo)電型的摻雜阱分隔開的第一絕緣層;該第一電流溝道區(qū)上依次設(shè)有第一層絕緣薄膜、第一導(dǎo)電型的浮柵、第二層絕緣薄膜和第一控制柵極。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或10所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述浮柵與所述第一導(dǎo)電型的擴(kuò)散區(qū)電性連接,或者所述浮柵延伸至所述第一導(dǎo)電型的擴(kuò)散區(qū)上并與之接觸。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體感光單元,其特征在于所述第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體襯底內(nèi)設(shè)有第二導(dǎo)電型的第一源極;該第一源極與第二導(dǎo)電型的摻雜阱之間的半導(dǎo)體襯底部分設(shè)有第一電流溝道區(qū);該第一電流溝道區(qū)上依次設(shè)有第一層絕緣薄膜、第一導(dǎo)電型的浮柵、第二層絕緣薄膜和第一控制柵極,該浮柵超出第一層絕緣薄膜并延伸至所述第一導(dǎo)電型的擴(kuò)散區(qū)上并與之接觸。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州東微半導(dǎo)體有限公司,未經(jīng)蘇州東微半導(dǎo)體有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410140574.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種CMOS圖像傳感器的制造方法
- 下一篇:三維存儲器及其制造方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





