[發(fā)明專利]低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀及其工作方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410139082.8
• 申請(qǐng)日: 2014-04-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103932712A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沙福祿;周振祥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沙福祿;周振祥
• 主分類號(hào): A61B5/117
• 分類號(hào): A61B5/117
• 代理公司: 天津天麓律師事務(wù)所 12212
• 代理人: 王里歌

1.一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于它包括箱體、控制單元、溫濕度傳感器、制冷單元、加濕單元及供電模塊；所述溫濕度傳感器、制冷單元及加濕單元設(shè)置于箱體內(nèi)；所述控制單元分別與溫濕度傳感器、制冷單元及加濕單元連接；所述供電模塊連接控制單元、溫濕度傳感器、制冷單元及加濕單元。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述制冷單元包括制冷裝置和散熱裝置；所述制冷裝置和散熱裝置安裝在恒溫內(nèi)膽上構(gòu)成一個(gè)密封的整體結(jié)構(gòu)；所述溫濕度傳感器及加濕單元安裝于內(nèi)膽上；所述內(nèi)膽嵌入于箱體內(nèi)，內(nèi)膽上表面有用于與箱體固定的固定沿。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述制冷裝置采用半導(dǎo)體制冷片制冷，所述散熱裝置采用風(fēng)冷散熱風(fēng)道方式進(jìn)行半導(dǎo)體熱端冷卻；所述風(fēng)道的出風(fēng)口設(shè)置在箱體上；所述箱體上部為透明蓋。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述加濕單元包括加濕裝置和攪拌裝置；所述加濕裝置和攪拌裝置均連接控制單元及供電模塊。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述內(nèi)膽內(nèi)設(shè)置有將冷凝水導(dǎo)流至容器中進(jìn)行冷凝水回收的排水導(dǎo)流裝置；所述內(nèi)膽中間部分設(shè)置有放置物品的升降可調(diào)的托盤。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述內(nèi)膽上安裝有照明單元；所述照明單元包括固定式LED背景燈和可調(diào)式聚光燈；所述照明單元與控制單元及供電模塊連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述控制單元包括控制裝置和安裝于箱體上能夠提供開(kāi)關(guān)量控制及模擬量采集的LCD液晶觸摸控制屏。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀，其特征在于所述供電模塊分為恒流源和開(kāi)關(guān)電源兩個(gè)部分，所述恒流源與制冷單元連接，所述開(kāi)關(guān)電源與照明單元、加濕單元及控制單元連接。

9.一種權(quán)利要求1所述低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀的工作方法，其特征在于它包括以下步驟：

（1）控制單元控制制冷單元及加濕單元制冷加濕；

（2）溫濕度傳感器將箱體內(nèi)的溫濕度傳給控制單元，使箱體內(nèi)為恒溫恒濕的環(huán)境；

（3）置于箱體內(nèi)的證物表面形成極薄的均勻水霧，痕跡顯現(xiàn)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述一種低溫霧化痕跡顯現(xiàn)儀的工作方法，其特征在于所述步驟（3）中控制單元控制照明裝置調(diào)整光照、角度，痕跡清晰可見(jiàn)；

所述控制單元的LCD液晶觸摸控制屏能夠?qū)銣叵錅囟取穸取嚢琛⒄彰鲄?shù)進(jìn)行控制，并提供溫度、濕度數(shù)字量的顯示；

所述箱體外連接用于固定照相機(jī)的懸臂或支架上安裝相機(jī)，能夠機(jī)械調(diào)節(jié)相機(jī)位置，使其能夠在停留在箱體上部透明蓋的任意位置，且使得相機(jī)鏡頭向下水平于透明蓋并穩(wěn)定不動(dòng)。