[發明專利]玻璃基板清洗裝置

在審

• 申請號: 201410138570.7
• 申請日: 2014-04-08
• 公開（公告）號: CN104971921A
• 公開（公告）日: 2015-10-14
• 發明（設計）人: 陳仰宏;楊小剛
• 申請（專利權）人: 麒麟電子（深圳）有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B11/04
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

1.一種玻璃基板清洗裝置，其特征在于，包括：

清洗箱，其具有空腔，所述空腔內設有隔板，所述隔板將所述空腔分隔為可容納工作液體的工作槽以及用于容納從所述工作槽內溢出的工作液體的排液槽，所述隔板上設有用于調節所述工作槽內工作液體液位的溢出孔，所述溢出孔貫通所述工作槽與所述排液槽；

超聲波發生器，其設于所述清洗箱外；

上振板及下振板，其用于發射超聲波使工作液體產生空化氣泡，所述上振板及所述下振板均與所述超聲波發生器電氣連接，所述下振板設于所述工作槽底部，所述上振板設于所述工作槽內且位于所述下振板上方，所述上振板與所述下振板之間的間隙形成容待清洗玻璃基板通過的通道；

傳送機構，其用于傳送所述待清洗玻璃基板，所述傳送機構設于所述通道內；

循環補液系統，其用于為所述工作槽提供工作液體，用于回收所述排液槽內的工作液體，所述循環補液系統與所述清洗箱連接。

2.如權利要求1所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：還包括用于為所述工作槽補充工作液體且為所述待清洗玻璃基板提供壓力流的補液刀，所述補液刀設于所述工作槽內且位于所述上振板的側面周圍，所述補液刀與所述循環補液系統連接且設有射出工作液體流的噴液口，所述噴液口豎直朝下。

3.如權利要求2所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：所述工作槽內設有兩個所述上振板，兩所述上振板成間距并排設置，兩所述上振板之間的間隙設有所述補液刀。

4.如權利要求1所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：所述工作槽內設有兩個所述上振板，兩所述上振板并排設置。

5.如權利要求1所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：所述傳送機構包括多個上滾軸及多個下滾軸，多個所述下滾軸成間距平行排列設置且位于所述下振板之上，多個所述上滾軸成間距平行排列設置且位于所述上振板與所述下滾軸之間。

6.如權利要求1-5任一項所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：還包括用于調節所述上振板高度位置的調節件，所述調節件設于所述清洗箱的內壁，所述上振板設于所述調節件上。

7.如權利要求1-5任一項所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：所述隔板上設有用于調節所述溢出孔大小和高度的調節板，所述調節板設于所述溢出孔下方。

8.如權利要求1-5任一項所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：所述清洗箱的空腔內設有兩個所述隔板，兩個所述隔板平行相對設置并將所述空腔分隔為一個所述工作槽及兩個所述排液槽，兩個所述排液槽分別位于所述工作槽兩側。

9.如權利要求8所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：其中一個所述隔板上設有容所述待清洗玻璃基板由所述排液槽進入所述工作槽的入料口，另一個所述隔板上設有容所述待清洗玻璃基板由所述工作槽輸出至所述排液槽的出料口，所述入料口與所述出料口相對設置。

10.如權利要求1所述的玻璃基板清洗裝置，其特征在于：還包括機架，所述清洗箱、所述超聲波發生器及所述循環補液系統均設于所述機架上；所述循環補液系統包括儲液箱、管道組、過濾器及水泵，所述過濾器及所述水泵均設于所述儲液箱外，所述儲液箱通過所述管道組與所述清洗箱連接。