[發明專利]發光二極管及其制造方法有效
| 申請號: | 201410138137.3 | 申請日: | 2014-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN104103726B | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發明(設計)人: | 紀喨勝;陳佩佳;陳之皓 | 申請(專利權)人: | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/20 | 分類號: | H01L33/20;H01L33/00;H01L21/78 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光二極管 及其 制造 方法 | ||
1.一發光二極管,包含:
基板,該基板包含一上表面、一底面相對于該上表面以及一側表面;
第一型態半導體層,位于該上表面上,其中該第一型態半導體層包含第一部分以及第二部分,且該第二部分包含一邊緣圍繞該第一部分;
發光層,在該第一部分上;以及
第二型態半導體層,在該發光層上,
其中,該第二部分包含第一表面以及第二表面,在該第一表面以及該上表面之間具有第一距離,在該第二表面以及該上表面之間具有第二距離小于該第一距離,
其中,該第一表面與該第二表面具有不同粗糙度,且該第二表面位于該邊緣。
2.如權利要求1所述的發光二極管,其中該基板包含透明基板。
3.如權利要求1所述的發光二極管,其中該第二表面的寬度介于5μm~15μm。
4.如權利要求1所述的發光二極管,其中該第一距離比該第二距離大
5.如權利要求1所述的發光二極管,其中該第一表面包含第一平均粗糙度(Ra)大于100nm,及/或該第二表面包含第二平均粗糙度(Ra)介于10nm~100nm。
6.如權利要求1所述的發光二極管,還包含反射層在該底面上。
7.如權利要求1所述的發光二極管,還包含破壞區域,位于該側表面上,且該破壞區域與該上表面及該底面之間具有一距離。
8.如權利要求1所述的發光二極管,其中該第一表面比該第二表面粗糙。
9.一種制造發光二極管的方法,包含:
提供一基板;
提供一半導體疊層在該基板上,其中該半導體疊層自該基板開始依序包含一第一形態半導體層、一發光層及一第二形態半導體層;
圖形化該第二形態半導體層、該發光層及該第一形態半導體層,以露出該第一形態半導體層的第一表面;
處理該第一表面的一部分以形成一第二表面,其中該第一表面的另一部分與該第二表面具有不同粗糙度;以及
提供一激光束穿透過該第二表面以切割該基板。
10.如權利要求9所述的制造發光二極管的方法,其中該激光束聚焦于該基板內部以形成一破壞區域在該基板內部,該破壞區域位于該第二表面之下。
11.如權利要求9所述的制造發光二極管的方法,其中該激光束通過該第一表面的該另一部分時會散射。
12.如權利要求9所述的制造發光二極管的方法,其中該第二表面比該第一表面的該另一部分平坦。
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