[發明專利]一種光刻機垂向控制參數校準方法有效
| 申請號： | 201410137059.5 | 申請日： | 2014-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN104977809B | 公開（公告）日： | 2017-06-27 |
| 發明（設計）人： | 陳南曙 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 控制 參數 校準 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻機垂向控制參數校準方法，其特征在于：包括如下步驟：
步驟1：初始化工件臺、掩模臺、掩模調焦調平傳感器、同軸對準分系統；
步驟2：上載掩模版；
步驟3：將掩模對準標記運動到同軸對準位置；
步驟4：設置掩模臺以指定步長在指定范圍內垂向運動，工件臺跟隨掩模臺運動；
步驟5：記錄每一步測量得到的掩模調焦調平傳感器與工件臺光柵尺讀數；重復步驟4直至掩模臺完成所述指定范圍內的垂向運動；
步驟6：計算工件臺光柵尺與掩模調焦調平傳感器兩組數據的比例系數；
步驟7：以工件臺光柵尺的測量數據計算得到的比例系數為基準更新掩模調焦調平傳感器的比例系數；
所述步驟4還包括如下步驟：
步驟4.1：掩模臺以指定步長垂向運動；
步驟4.2：工件臺依據同軸對準搜索、測量得到的理想焦面位置跟隨掩模臺運動，記錄每一步的對比度數據；
步驟4.3：根據工件臺光柵尺垂向位置與對比度的數值找到極值點。
2.如權利要求1所述的光刻機垂向控制參數校準方法，其特征在于，通過將所述工件臺光柵尺垂向位置與對比度的數值作最小二乘法高階擬合，找到極值點。
3.如權利要求1所述的光刻機垂向控制參數校準方法，其特征在于，所述步驟4中的垂向運動范圍依據掩模調焦調平傳感器精測范圍確定。
4.如權利要求1所述的光刻機垂向控制參數校準方法，其特征在于，所述步驟6中使用最小二乘法擬合兩組數據的比例系數。
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