[發(fā)明專利]用于檢測(cè)和跟蹤一個(gè)物體上多個(gè)部位的系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410135793.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103996019B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐學(xué)燕;丁游 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 香港應(yīng)用科技研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06K9/00 | 分類號(hào): | G06K9/00;G06K9/46;G06T7/73 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司44223 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 中國(guó)香港新界沙田香港科*** | 國(guó)省代碼: | 香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 檢測(cè) 跟蹤 一個(gè) 物體 上多個(gè) 部位 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種檢測(cè)一個(gè)物體的至少一個(gè)預(yù)定部位的姿勢(shì)的方法,包括步驟:
a)從由第一圖像傳感器拍攝的第一圖像中,提取出第一物體形狀;
b)計(jì)算所述第一物體形狀一個(gè)預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述預(yù)定部位的一個(gè)特征尺寸值;
c)根據(jù)所述特征尺寸值,構(gòu)建一個(gè)掩膜;
d)通過(guò)將所述掩膜應(yīng)用在所述第一物體形狀上,從所述第一物體形狀中提取出所述預(yù)定部位的一個(gè)輪廓;
e)在所述預(yù)定部位的所述輪廓中,找到至少一個(gè)預(yù)定特征點(diǎn),從而檢測(cè)出所述預(yù)定部位的所述姿勢(shì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括步驟:
a)從所述第一圖像傳感器獲得一系列幀;
b)在所述多個(gè)幀上,重復(fù)權(quán)利要求1的步驟(b)、(c)、(d)和(e);
其中,對(duì)于每個(gè)所述幀,所述特征尺寸值是重新計(jì)算的,所述掩膜是重新構(gòu)建的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述計(jì)算特征尺寸值的步驟還包括以下步驟:
a)確定所述物體的一個(gè)參考部位的參考值;所述參考部位不同于所述至少一個(gè)預(yù)定部位;
b)根據(jù)所述參考值,計(jì)算多個(gè)閾值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中所述計(jì)算特征尺寸值的步驟還包括以下步驟:
a)根據(jù)第一組所述多個(gè)閾值,確定多個(gè)分割邊界;
b)根據(jù)所述分割邊界,從所述第一物體形狀中提取出所述預(yù)定區(qū)域;
c)根據(jù)第二組所述多個(gè)閾值,識(shí)別出所述預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述至少一個(gè)預(yù)定部位;
d)測(cè)量所述預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述至少一個(gè)預(yù)定部位的尺寸值;
e)根據(jù)所述預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述預(yù)定部位的所述尺寸值,計(jì)算所述特征尺寸值。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,還包括步驟:將掃描線放在所述多個(gè)分割邊界之間,使用快速分割算法;其中所述預(yù)定區(qū)域是在所述掃描線和所述第一物體形狀的頂邊界之間的一個(gè)區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中所述快速分割算法選自以下:二進(jìn)制分割算法、黃金分割算法。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中所述計(jì)算特征尺寸值的步驟還包括以下步驟:
a)根據(jù)所述預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述至少一個(gè)預(yù)定部位的所述尺寸值,計(jì)算一組區(qū)別因子;
b)計(jì)算所述特征尺寸值,即所述尺寸值的加權(quán)平均,其中所述加權(quán)平均的加權(quán)因子是基于所述組區(qū)別因子和裕度系數(shù)的。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,還包括步驟:根據(jù)所述特征尺寸值,更新所述第一組和所述第二組多個(gè)閾值。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述構(gòu)建掩膜的步驟還包括以下步驟:
a)在所述第一物體形狀上執(zhí)行腐蝕操作,因而生成一個(gè)腐蝕形狀;
b)在所述腐蝕形狀上執(zhí)行膨脹操作,因而生成所述掩膜;
其中所述腐蝕操作和所述膨脹操作的結(jié)構(gòu)元素的大小是基于所述特征尺寸值的。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中所述結(jié)構(gòu)元素的大小是所述特征尺寸值的一半。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述找到至少一個(gè)預(yù)定特征點(diǎn)的步驟還包括以下步驟:
a)在所述預(yù)定部位的所述輪廓中,找到所述物體的每個(gè)預(yù)定部位;
b)對(duì)于所述第一圖像中的所述每個(gè)預(yù)定特征點(diǎn),確定至少一個(gè)第一特征點(diǎn)位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,還包括以下步驟:
a)從由第二圖像傳感器拍攝的第二圖像中,提取出所述物體的第二物體形狀;
b)計(jì)算所述第二物體形狀第二預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述預(yù)定部位的第二特征尺寸值;
c)根據(jù)所述第二特征尺寸值,構(gòu)建第二掩膜;
d)通過(guò)將所述第二掩膜應(yīng)用在所述第二物體形狀上,從所述第二物體形狀中提取出所述預(yù)定部位的第二輪廓;
e)在所述預(yù)定部位的所述第二輪廓中,找到至少一個(gè)預(yù)定特征點(diǎn);
f)對(duì)于所述第二圖像內(nèi)的每個(gè)所述預(yù)定特征點(diǎn),確定至少一個(gè)第二特征點(diǎn)位置;
g)根據(jù)所述第一特征點(diǎn)位置和所述第二特征點(diǎn)位置,確定每個(gè)所述特征點(diǎn)的三維坐標(biāo)。
其中所述第一圖像和所述第二圖像是同時(shí)拍攝的,所述第二圖像傳感器和所述第一圖像傳感器相隔一個(gè)預(yù)定距離。
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G06K 數(shù)據(jù)識(shí)別;數(shù)據(jù)表示;記錄載體;記錄載體的處理
G06K9-00 用于閱讀或識(shí)別印刷或書(shū)寫字符或者用于識(shí)別圖形,例如,指紋的方法或裝置
G06K9-03 .錯(cuò)誤的檢測(cè)或校正,例如,用重復(fù)掃描圖形的方法
G06K9-18 .應(yīng)用具有附加代碼標(biāo)記或含有代碼標(biāo)記的打印字符的,例如,由不同形狀的各個(gè)筆畫(huà)組成的,而且每個(gè)筆畫(huà)表示不同的代碼值的字符
G06K9-20 .圖像捕獲
G06K9-36 .圖像預(yù)處理,即無(wú)須判定關(guān)于圖像的同一性而進(jìn)行的圖像信息處理
G06K9-60 .圖像捕獲和多種預(yù)處理作用的組合
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
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