[發(fā)明專利]一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法

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• 申請日: 2014-04-04
• 公開（公告）號: CN103923340A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 萬錒俊;黃然
• 申請（專利權(quán)）人: 上海交通大學(xué)
• 主分類號: C08J9/26
• 分類號: C08J9/26;C08L25/06;C08L33/12
• 代理公司: 上海科盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225
• 代理人: 蔣亮珠

1.一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法，其特征在于，將聚乳酸與目標(biāo)高分子材料共混加工后，通過降解除去材料內(nèi)的聚乳酸區(qū)域，保留目標(biāo)高分子，以得到開孔聯(lián)通結(jié)構(gòu)的多孔高分子材料的技術(shù)，其中目標(biāo)高分子包括聚酯，聚醚，脂肪族聚合物等所有與聚乳酸有良好共混性及共同加工性能的高分子材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法，其特征在于，所述的方法具體包括以下步驟：

(1)將聚乳酸加工成易于分散共混的原料形態(tài)，包括微粒或纖維狀；

(2)將微粒或纖維狀聚乳酸與目標(biāo)高分子材料混合，攪拌5-20分鐘，超聲振蕩分散5-10分鐘，至兩組分共混分散均勻后，加工成型；

(3)將步驟(2)所得共混產(chǎn)物置于降解液中，定時稱量監(jiān)測所得產(chǎn)物的失重，至產(chǎn)物不再失重即得產(chǎn)品。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法，其特征在于，所述的聚乳酸被加工為微粒或纖維狀，微粒尺寸為直徑1微米-1毫米之間，纖維尺寸為直徑1微米-200微米，長度200微米-2毫米之間，具體尺寸選用應(yīng)與目標(biāo)高分子的尺寸相當(dāng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法，其特征在于，所述的聚乳酸與目標(biāo)高分子材料的共混物中聚乳酸含量在50wt％-90wt％之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法，其特征在于，步驟(2)所述的加工成型采用常規(guī)塑料加工工藝成型，包括雙螺桿擠出或注射成型等，加工成型溫度在140-200℃。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孑高分子材料的方法，其特征在于，步驟(3)所述降解液包括濃度0.01mol/L-1mol/L的鹽酸、硫酸或硝酸溶液，0.01mol/L-1mol/L的氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液，水，或濃度為0.01mol/L-1mol/L鹽溶液。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種利用聚乳酸降解刻蝕制備多孔高分子材料的方法，其特征在于，所述的目標(biāo)高分子材料包括聚酯，聚醚或脂肪族聚合物。