[發明專利]工藝制程處理方法及系統

有效

• 申請號: 201410134092.2
• 申請日: 2014-04-03
• 公開（公告）號: CN104977857B
• 公開（公告）日: 2018-01-09
• 發明（設計）人: 李娟娟
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: G05B19/04
• 分類號: G05B19/04
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 李芙蓉

1.一種工藝制程處理方法，其特征在于，包括以下步驟：

根據工藝制程中各個參數的物理存儲位置，將所述工藝制程中的所有參數劃分為兩種類型，其中，一種為工藝參數，另一種為配置參數；

工藝開始后，讀取所述工藝制程中的所有參數的值；

遍歷所述工藝制程中的所有參數，并根據所述參數的名稱識別當前參數的類型；

若當前參數為所述配置參數，則進一步判斷當前參數是否存在根據用戶需求配置的指定值，若判斷當前參數存在所述指定值，則將所述指定值發送至對應的功能模塊中運行并顯示。

2.根據權利要求1所述的工藝制程處理方法，其特征在于，還包括以下步驟：

若當前參數為所述工藝參數，則將當前參數的值設置到對應的硬件設備中，控制所述對應的硬件設備進行工藝。

3.根據權利要求1或2所述的工藝制程處理方法，其特征在于，在若當前參數為所述配置參數，進一步判斷當前參數是否存在根據用戶需求配置的指定值之后，還包括以下步驟：

若判斷當前參數不存在所述指定值，則將預設的當前參數的默認值發送至對應的功能模塊中運行并顯示。

4.根據權利要求3所述的工藝制程處理方法，其特征在于，在遍歷所述工藝制程中的所有參數后，還包括以下步驟：

等待工藝結束，同時監測工藝過程中所有參數的實際值是否超過配置的所述指定值或者預設的所述默認值，并根據監測結果進行相應的處理。

5.根據權利要求3所述的工藝制程處理方法，其特征在于，所述配置參數包括軟硬容差、和/或超時時間、和/或穩定時間。

6.一種工藝制程處理系統，其特征在于，包括劃分模塊、讀取模塊、識別模塊以及第一控制模塊；

所述劃分模塊，用于根據工藝制程中各個參數的物理存儲位置，將所述工藝制程中的所有參數劃分為兩種類型，其中，一種為工藝參數，另一種為配置參數；

所述讀取模塊，用于在工藝開始后，讀取所述工藝制程中的所有參數的值；

所述識別模塊，用于遍歷所述工藝制程中的所有參數，并根據所述參數的名稱識別當前參數的類型；

所述第一控制模塊，用于在當前參數為所述配置參數時，進一步判斷當前參數是否存在根據用戶需求配置的指定值，若判斷當前參數存在所述指定值，則將所述指定值發送至對應的功能模塊中運行并顯示。

7.根據權利要求6所述的工藝制程處理系統，其特征在于，還包括第二控制模塊；

所述第二控制模塊，用于在當前參數為所述工藝參數時，將當前參數的值設置到對應的硬件設備中，控制所述對應的硬件設備進行工藝。

8.根據權利要求6或7所述的工藝制程處理系統，其特征在于，還包括第三控制模塊；

所述第三控制模塊，用于在判斷當前參數不存在所述指定值后，將預設的當前參數的默認值發送至對應的功能模塊中運行并顯示。

9.根據權利要求8所述的工藝制程處理系統，其特征在于，還包括監控模塊；

所述監控模塊，用于在所述識別模塊遍歷所述工藝制程中的所有參數后，等待工藝結束，同時監測工藝過程中所有參數的實際值是否超過配置的所述指定值或者預設的所述默認值，并根據監測結果進行相應的處理。

10.根據權利要求7所述的工藝制程處理系統，其特征在于，所述配置參數包括軟硬容差、和/或超時時間、和/或穩定時間。