[發(fā)明專利]皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)印裝置以及圖像形成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410133820.8
• 申請日: 2014-04-03
• 公開（公告）號: CN104345610B
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發(fā)明（設計）人: 櫨木伸吾
• 申請（專利權(quán)）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G03G15/16
• 分類號: G03G15/16
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;徐丹

皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)印裝置以及圖像形成裝置。皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)包括：接觸部件、接受部和多個連接部件。所述接觸部件與可旋轉(zhuǎn)的皮帶相接觸，并且在與該皮帶移動方向相交的交叉方向上縱向延伸。所述接受部在所述交叉方向上設置在該接觸部件的兩側(cè)，并且當皮帶在所述交叉方向上移動時接受來自該皮帶的壓力。所述連接部件并列設置在交叉方向上。各連接部件具有以可繞著沿移動方向延伸的軸轉(zhuǎn)動的方式連接到基座的第一端，以及以可繞著沿移動方向延伸的軸轉(zhuǎn)動的方式連接到接觸部件的第二端。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)印裝置以及圖像形成裝置。

背景技術(shù)

在日本特開平11-79457號公報中公開的皮帶驅(qū)動裝置具有張緊輥。張緊輥的兩端分別設置有呈錐形、其直徑朝向外側(cè)減小的校正輥和可旋轉(zhuǎn)地支撐所述校正輥的校正輥支承軸。此外，在日本特開平11-79457號公報中公開的皮帶驅(qū)動裝置，各校正輥支承軸的軸線和張緊輥的軸線相互交叉。因此，在日本特開平11-79457號公報中公開的皮帶驅(qū)動裝置中，當環(huán)形皮帶開始偏向一側(cè)時，由于校正輥在軸向上的周速差，產(chǎn)生一種與環(huán)形皮帶的偏離方向相反的推力。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在提供一種能夠在抑制皮帶偏移的同時使皮帶旋轉(zhuǎn)的皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)印裝置以及圖像形成裝置。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)，包括：接觸部件、接受部和多個連接部件。所述接觸部件，其與可旋轉(zhuǎn)的皮帶相接觸，并在與所述皮帶的移動方向相交的交叉方向上縱向延伸；所述接受部，其在所述交叉方向上設置在所述接觸部件的兩側(cè)，并且當所述皮帶在所述交叉方向上移動時接受來自該皮帶的壓力；以及所述多個連接部件，其并列設置在所述交叉方向上，各連接部件具有以可繞著沿所述移動方向延伸的軸轉(zhuǎn)動的方式連接到基座的第一端，以及以可繞著沿所述移動方向延伸的軸轉(zhuǎn)動的方式連接到所述接觸部件的第二端。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，在第一方面所述的皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)中，所述接觸部件與所述皮帶的內(nèi)表面相接觸。

根據(jù)本發(fā)明的第三方面，在第一或第二方面所述的皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)中，所述皮帶卷繞在驅(qū)動該皮帶的驅(qū)動輥和被該皮帶驅(qū)動的從動輥上。而且，所述接觸部件在移動方向上配置在所述驅(qū)動輥的上游側(cè)且所述從動輥的下游側(cè)。

根據(jù)本發(fā)明的第四方面，在第一至第三方面中任一方面所述的皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)中，所述接觸部件中的至少一個端部可以設置施加抵抗力的施加單元，其用于施加抵抗所述接觸部件與一個所述連接部件或所述接觸部件與基座相互接觸的抵抗力。

根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供一種轉(zhuǎn)印裝置，包括：可旋轉(zhuǎn)的皮帶、轉(zhuǎn)印單元以及上述第一至第四方面中任一方面所述的皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)。所述轉(zhuǎn)印單元將皮帶上的顯影劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄介質(zhì)上。所述皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)抑制皮帶在交叉方向上的偏移。

根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供一種圖像形成裝置，包括：圖像承載件、上述第五方面中所述的轉(zhuǎn)印裝置以及輔助轉(zhuǎn)印單元。所述圖像承載件與所述皮帶相對設置，并承載顯影劑圖像。所述輔助轉(zhuǎn)印單元將所述圖像承載件上的所述顯影劑圖像轉(zhuǎn)印到所述皮帶上。

根據(jù)所述第一方面，與只在皮帶的兩側(cè)邊緣抑制皮帶偏移的構(gòu)成相比，所述皮帶可以在抑制其偏移的同時進行旋轉(zhuǎn)。

根據(jù)所述第二方面，與將皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)設置在皮帶前側(cè)的構(gòu)成相比，所述皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)可進一步減小尺寸。

根據(jù)所述第三方面，與將接觸部件設置在驅(qū)動輥的下游側(cè)的構(gòu)成相比，能夠以高靈敏度抑制所述皮帶的偏移。

根據(jù)所述第四方面，與未設置為抵抗接觸部件與相應連接部件或接觸部件與基座相接觸而施加抵抗力的施加單元的構(gòu)成相比，可以抑制接觸部件的突然位移。

根據(jù)所述第五方面，與未設置根據(jù)第一至第五方面中任一方面所述的皮帶偏移抑制結(jié)構(gòu)的構(gòu)成相比，可以抑制在記錄介質(zhì)上的轉(zhuǎn)印錯位。