[發明專利]鍍膜充氣裝置

有效

• 申請號: 201410133137.4
• 申請日: 2014-04-03
• 公開（公告）號: CN103866294B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發明（設計）人: 鄭芳平;張迅;易偉華
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 吳平

技術領域

本發明涉及鍍膜技術，特別是涉及一種鍍膜充氣裝置。

背景技術

目前，大部分鍍膜公司采用單管道的充氣管，以單管道充氣的方式進行工藝充氣，以用于鍍膜。

對于傳統的單管道充氣的方式，其由于充氣點單一，在工藝充氣管道會出現局部的布氣不均勻的現象。在充氣點附近的氣體的濃度較大，而遠離充氣點的氣體的濃度較為低，因此在立式的鍍膜工藝中，不同的氣體的濃度影響工藝上中下的均勻性，進而影響鍍膜產品的品質。在工藝生產過程中，遇到需要調整上中下膜厚均勻性時，無法及時調整。

發明內容

基于此，有必要提供一種管道內氣體濃度較為均勻的鍍膜充氣裝置。

一種鍍膜充氣裝置，包括：

主氣管，為長條形管狀結構，所述主氣管上開設有多個第一出氣孔，多個所述第一出氣孔沿所述主氣管的軸向間隔排列，所述主氣管的側壁上沿其軸向還均勻分布有多個第一充氣孔；及

輔助氣管，設置于所述主氣管的一側，并與所述主氣管相獨立，所述輔助氣管上開設有多個第二出氣孔，多個所述第二出氣孔沿所述輔助氣管的軸向間隔排列，所述輔助氣管內設置有多個第一分隔板，多個所述第一分隔板將所述輔助氣管分隔成多個相互獨立的輔助通道，多個所述輔助通道的側壁上均開設有第二充氣孔。

在其中一個實施例中，所述主氣管與所述輔助氣管一體成型，且所述主氣管與所述輔助氣管通過軸向延伸的第二分隔板進行分隔。

在其中一個實施例中，所述第一充氣孔為三個；所述第一分隔板為兩個，兩個所述第一分隔板將所述輔助氣管分隔成三個相互獨立的輔助通道。

在其中一個實施例中，相鄰兩個所述第一出氣孔間的距離相等。

在其中一個實施例中，相鄰兩個所述第二出氣孔間的距離相等。

在其中一個實施例中，還包括第一充氣管，所述第一充氣管包括主充氣管及由所述主充氣管一端分叉形成的多個支管，多個所述支管分別通過多個第一充氣孔與所述主氣管內部相導通。

在其中一個實施例中，還包括第一流量計，所述第一流量計設置于所述主充氣管上，用于對主充氣管內的氣流進行控制。

在其中一個實施例中，還包括多個第二充氣管，多個所述第二充氣管分別通過多個第二充氣孔與多個輔助通道相導通。

在其中一個實施例中，所述第二充氣管上還設置有第二流量計。

在其中一個實施例中，所述主氣管和/或所述輔助氣管為矩形管。

上述鍍膜充氣裝置，至少具備以下優點：

首先，在主氣管上均勻分布有多個第一充氣孔，通過多個第一充氣孔對主氣管進行充氣，可以使主氣管內氣體的濃度均勻分布，進而使得鍍膜工藝更加均勻，提高了鍍膜產品的質量。

同時，輔助氣管由第一分隔板分隔成多個相互獨立的輔助通道，多個輔助通道的側壁上均開設有第二充氣孔，通過第二充氣孔對輔助通道進行充氣，可以對鍍膜工藝中各部位的氣體的濃度進行調節，進一步保證了氣體的均勻性。

此外，第二充氣管上還設置有第二流量計。通過第二流量計，可以對充入各個輔助通道內的氣流進行調節，以調節各個輔助通道內氣體的濃度，增加鍍膜工藝的均勻性。

附圖說明

圖1為本發明較佳實施例中鍍膜充氣裝置的結構圖；

圖2為圖1所示鍍膜充氣裝置的局部結構示意圖。

具體實施方式

為了便于理解本發明，下面將參照相關附圖對本發明進行更全面的描述。附圖中給出了本發明的較佳實施方式。但是，本發明可以以許多不同的形式來實現，并不限于本文所描述的實施方式。相反地，提供這些實施方式的目的是使對本發明的公開內容理解的更加透徹全面。

需要說明的是，當元件被稱為“固定于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實施方式。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本發明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本發明的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施方式的目的，不是旨在于限制本發明。本文所使用的術語“及／或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

請參閱圖1，本發明較佳實施例中的鍍膜充氣裝置100，包括主氣管110及輔助氣管120。