[發(fā)明專利]四段式放大反饋混沌光發(fā)射激光器結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410130717.8 | 申請日: | 2014-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN104953468A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 潘碧瑋;陸丹;趙玲娟;余力強;周代兵;朱洪亮;王圩;張莉萌 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號: | H01S5/343 | 分類號: | H01S5/343 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 100083 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 段式 放大 反饋 混沌 發(fā)射 激光器 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光電集成技術(shù)領(lǐng)域,特別指一種用于混沌光發(fā)射的四段式放大反饋激光器結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
高速大容量以及提升數(shù)據(jù)的保密性是目前光纖通信網(wǎng)絡(luò)發(fā)展的兩個主要方向。密集波分復(fù)用技術(shù)和光時分復(fù)用技術(shù)的發(fā)射使得光纖通信的傳輸速率和容量得到了極大的提高。而在數(shù)據(jù)的保密性方面,目前采用的是基于公眾密鑰的軟件加密技術(shù)。然而隨著計算機計算能力的提升,該加密技術(shù)的安全性受到了嚴峻的考驗。因此,尋找新的技術(shù),構(gòu)建更加保密的通信系統(tǒng)具有十分重要的意義。
現(xiàn)在用來代替公眾密鑰的保密通信技術(shù)主要有量子通信和混沌通信。量子通信很好的解決了通信系統(tǒng)的保密性問題,但是由于其傳輸速率極低,目前尚不能實用。混沌通信是一種在物理層面上利用硬件加密來實現(xiàn)數(shù)據(jù)加密的技術(shù)。混沌信號具有偽隨機,長期不可預(yù)測,以及對初始狀態(tài)極為敏感等特點。這些都為其在保密通信中的應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。混沌通信開始是在電通信系統(tǒng)中實現(xiàn)的,但由于電通信系統(tǒng)帶寬低,衰減大,抗干擾能力差,很難實現(xiàn)高速大容量混沌通信。因此,利用可以發(fā)射混沌光的半導(dǎo)體激光器和光通信網(wǎng)絡(luò)結(jié)合,搭建混沌光通信系統(tǒng),既可以實現(xiàn)信號的物理層面加密,又可以實現(xiàn)高速大容量的傳輸。
基于磷化銦材料的半導(dǎo)體激光器是目前光通信系統(tǒng)的主要光源。它具有體積小,成本低,激射波長位于光通信波段,穩(wěn)定性好等優(yōu)點。因此,基于磷化銦半導(dǎo)體激光器的混沌光通信系統(tǒng)近年來被廣泛研究。但一般的混沌光光源為半導(dǎo)體激光器外加光注入系統(tǒng),光反饋系統(tǒng)或者光電延時反饋系統(tǒng)來實現(xiàn)。這些技術(shù)均需要外部光路來輔助,而且系統(tǒng)復(fù)雜,體積大,穩(wěn)定性差,不利于實際應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有混沌光發(fā)射系統(tǒng)需要外部光路輔助,體積大,穩(wěn)定性差等方面的不足,提出一種可單片集成,結(jié)構(gòu)緊湊,穩(wěn)定性好,制作工藝簡單的四段式放大反饋混沌光發(fā)射激光器結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明提供一種四段式放大反饋混沌光發(fā)射激光器結(jié)構(gòu),包括:
一襯底,該襯底的材料為S摻雜n型InP;
一n-InP緩沖層,該n-InP緩沖層制作在襯底上;
一InGaAsP下限制層,該InGaAsP下限制層制作在n-InP緩沖層上;
一多量子阱增益層,該多量子阱增益層制作在InGaAsP下限制層上,該多量子阱增益層為有源波導(dǎo)和無源波導(dǎo)交替結(jié)構(gòu);
一InGaAsP上限制層,該InGaAsP上限制層制作在多量子阱有源層上,該InGaAsP上限制層的表面形成復(fù)耦合布拉格光柵結(jié)構(gòu),該復(fù)耦合布拉格光柵結(jié)構(gòu)位于定義好的一部分有源波導(dǎo)之上;
一p-InP蓋層,其制作于InGaAsP上限制層上方,該p-InP蓋層的上表面縱向形成有一凸起的脊形;
一p-InGaAs接觸層,該p-InGaAs接觸層制作于p-InP蓋層的上方,并覆蓋整個凸起的脊形,在凸起的脊形上面的該p-InGaAs接觸層上形成有不同區(qū)段的隔離溝;
一TiAu金屬電極,該TiAu接觸電極制作于p-InGaAs接觸層的上方,該TiAu金屬電極在p-InGaAs接觸層上的隔離溝處為整體斷開狀,分為四段電極;
一AuGeNi金屬電極,該AuGeNi金屬電極制作于襯底的下方,形成四段式放大反饋混動光發(fā)射激光器結(jié)構(gòu);
該四段式放大反饋混動光發(fā)射激光器結(jié)構(gòu)分為激光器區(qū)、相區(qū)、放大反饋區(qū)和透明區(qū)。
本發(fā)明的有益效果是:具有可單片集成,結(jié)構(gòu)緊湊,穩(wěn)定性好,制作工藝簡單的優(yōu)點。
附圖說明
為進一步說明本發(fā)明的具體技術(shù)特征,以下結(jié)合具體實施例,并參照附圖,對本發(fā)明做進一步詳細說明,其中:
圖1為襯底上生長n-InP緩沖層后的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為緩沖層上生長InGaAsP下限值層后的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為InGaAsP下限制層上生長多量子阱增益層后的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為多量子阱增益層上生長InGaAsP上限值層后的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為InGaAsP上限值層上生長p-InP蓋層后的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6為p-InP蓋層上方生長p-InGaAs接觸層后的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖7為在p-InGaAs接觸層上制作TiAu金屬電極,在襯底下方制作AuGeNi金屬電極后后的結(jié)構(gòu)示意圖;
具體實施方式
請參閱圖1至圖7,本發(fā)明提供一種四段式混沌光發(fā)射放大反饋激光器結(jié)構(gòu),包括:
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