[發明專利]觸摸顯示單元及其制造方法在審
| 申請號: | 201410129180.3 | 申請日: | 2014-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN104102377A | 公開(公告)日: | 2014-10-15 |
| 發明(設計)人: | 樸周度;田成萬;金用大;金東賢 | 申請(專利權)人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 高偉;陸弋 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 觸摸 顯示 單元 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本公開涉及一種在其一個表面上具有納米尺寸的凹凸圖案的觸摸顯示單元和一種用于制造該觸摸顯示單元的方法。
背景技術
近來,一種圖像顯示裝置具有觸摸屏功能,該觸摸屏功能用于通過使用用戶的手指、筆等來輸入信號而非通過另外的輸入裝置諸如鍵盤。
根據數據檢測方法,觸摸屏功能可以被分類成電阻性類型、電容性類型、表面聲波(SAW)類型、紅外類型等。
隨著顯示裝置的發展,對于移動顯示器和觸摸屏的研究正在活躍地進行中。為了更加清楚地輸出屏幕并且增強可視性,觸摸窗口的材料和結構正在不斷發展中。
近來,正在提出具有增強透射性或者反射性的顯示單元,該顯示單元通過一種在蓋玻片上沉積電極的方法或者一種在LCD和觸摸面板之間移除空氣層的結構而具有增強的光學功能。從顯示單元發射以輸出圖像的光在穿過觸摸面板的每一個結構的同時損失。
此外,因為顯示裝置的外表面由用于感測用戶的觸摸輸入并且顯示圖像的強化玻璃形成,所以光從外表面反射。這可能降低可視性。
發明內容
因此,本發明的一個方面在于提供一種具有增強的可視性的觸摸顯示單元。
為了實現這些和其它優點并且根據本說明書的目的,如在這里體現并且一般性描述地,提供一種觸摸顯示單元,包括:具有第一表面和第二表面的基礎基板,用戶的觸摸施加于第一表面,第二表面具有多個凹槽的凹凸圖案;在第二表面上形成的電極層,該電極層具有用于對應于用戶的觸摸產生電信號的感測區域并且具有對應于該多個凹槽的一個部分的開放區域;和在電極層下方形成并且向基礎基板提供光的顯示面板。
凹槽可以以納米尺寸不規則地形成。
電極層可以包括:在凹凸圖案上形成的第一電極層;在第一電極層上形成的絕緣部件;和在絕緣部件上形成的第二電極層。
電極層可以包括:在凹凸圖案上形成的第一電極層;在基礎基板的第二表面上形成的透明粘結膜;和在透明粘結膜上形成并且與第一電極層一起地形成電信號的第二電極層。
基礎基板的第一表面可以包括具有多個凹槽的凹凸圖案,以便散射從外側入射到基礎基板上的光。
觸摸顯示單元可以進一步包括在基礎基板的第一表面上形成并且配置為防止異物接觸基礎基板的膜,該第一表面暴露于外側。
基礎基板可以包括:形成基礎基板的外表面的玻璃基板;和由模制部件形成的凹凸層,該模制部件的一個表面附接到玻璃基板的一側并且具有凹凸圖案的凹凸部分形成在模制部件的另一個表面上。
玻璃基板具有在玻璃基板的另一個表面上對應于凹凸圖案地形成的納米尺寸凹槽。
電極層可以包括:在凹凸圖案上形成的第一電極;和在顯示面板上形成并且配置為與第一電極一起地感測用戶的觸摸的第二電極。
為了實現這些和其它優點并且根據本說明書的目的,如在這里體現并且一般性描述地,還提供一種用于制造觸摸顯示單元的方法,該方法包括:在玻璃基板的一個表面上形成納米掩模;利用納米掩模蝕刻玻璃基板的所述一個表面,由此形成包括多個凹槽的凹凸結構;通過移除納米掩模形成基礎基板;并且在玻璃基板的包括該多個凹槽的所述一個表面上形成電極層。
形成納米掩模的步驟可以包括:在玻璃基板的一個表面上形成金屬層;并且向已經形成有金屬層的玻璃基板施加熱量,使金屬層凝聚(cohere),由此形成納米掩模。
形成電極層的步驟可以包括:相對于基準方向以預設傾斜角度固定玻璃基板;并且通過在基準方向上向玻璃基板提供氣體,在玻璃基板的一個表面上形成電極層。
該方法可以進一步包括:在蓋玻片上沉積模制部件;在模制部件上布置玻璃基板,使得玻璃基板的一個表面面對蓋玻片;擠壓玻璃基板,使得利用凹槽在模制部件處形成凹凸圖案;并且移除玻璃基板。
該方法可以進一步包括在模制部件的已經形成有凹凸圖案的一個表面上形成電極層,其中模制部件由透明材料形成。
該方法可以進一步包括:在玻璃基板的另一個表面上形成金屬層;向已經形成有金屬層的玻璃基板施加熱量,由此使金屬層凝聚;并且通過將利用熱而凝聚的多個金屬片用作掩模,在玻璃基板的另一個表面上形成多個凹槽。
該方法可以進一步包括在玻璃基板的另一個表面上形成膜,以便防止異物被引入玻璃基板。
形成納米掩模的步驟可以包括:在玻璃基板的一個表面上形成金屬層;在金屬層上形成由多個珠體形成的單一珠體層;通過使用氧等離子體蝕刻珠體,并且在所述珠體之間具有間隔的情況下將珠體相互分離;并且通過使用珠體作為掩模蝕刻金屬層,由此形成納米掩模。
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