[發明專利]耐磨光學材料及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201410129129.2
• 申請日: 2014-04-01
• 公開（公告）號: CN103881028A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 梁慧
• 申請（專利權）人: 張家港康得新光電材料有限公司
• 主分類號: C08F283/00
• 分類號: C08F283/00;G02B1/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

技術領域

本發明涉及一種光學材料，特別是涉及一種耐磨光學材料、以及該耐磨光學材料的制備方法和應用。

背景技術

目前，用于背光模組中的增亮膜多數都是常規棱鏡片，具有原料簡單、產量較大的優點。但是因配方組成較硬，在生產、裁切、運輸以及使用過程中很容易造成刮傷、擦傷等致命性的損傷，所以上述棱鏡片在生產后需要在上下表面貼上保護膜。在使用時，需將保護膜去除。如此，不管是給生產還是使用都帶來了不必要的原料和人力成本的浪費。

發明內容

有鑒于此，本發明提供了一種耐磨光學材料、以及該耐磨光學材料的制備方法和應用。

為了實現上述目的之一，本發明的一種耐磨光學材料，其按質量百分比計包括：聚氨酯丙烯酸酯：30～60%；環氧型丙烯酸酯：≤20%；高折射率單體：10～30%；彈性單體：10～30%；稀釋單體：≤15%；光引發劑：2～7%。

作為本發明的進一步改進，所述高折射率單體包括：乙氧化雙酚A（甲基）丙烯酸酯、鄰苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、改性乙氧基雙酚芴丙烯酸酯或它們的組合。

作為本發明的進一步改進，所述彈性單體按摩爾百分比計包括：至少10%的環氧乙基的(甲基)丙烯酸酯。

作為本發明的進一步改進，所述稀釋單體包括：低粘單官能團丙烯酸酯、乙氧化雙酚A（甲基）丙烯酸酯。

作為本發明的進一步改進，所述光引發劑包括：1-羥基環己基苯基甲酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯甲酰甲酸甲酯或它們的組合。

為了實現上述另一目的，本發明的一種制備如上所述的耐磨光學材料的方法，所述方法包括如下步驟：按質量百分比計，稱量光引發劑：2～7%，稀釋單體：≤15%，彈性單體：10～30%，以及高折射率單體：10～30%，并置于容器中；再稱量環氧型丙烯酸酯：≤20%，聚氨酯丙烯酸酯：30～60%，并再次置于容器中，封閉容器，攪拌后在400～700mj/m²的條件下固化成型。

作為本發明的進一步改進，所述攪拌時，在45℃的條件下，攪拌30min。

作為本發明的進一步改進，所述高折射率單體包括：乙氧化雙酚A（甲基）丙烯酸酯、鄰苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、改性乙氧基雙酚芴丙烯酸酯或它們的組合。

作為本發明的進一步改進，所述彈性單體按摩爾百分比計包括：至少10%的環氧乙基的(甲基)丙烯酸酯。

作為本發明的進一步改進，所述稀釋單體包括：低粘單官能團丙烯酸酯、乙氧化雙酚A（甲基）丙烯酸酯。

作為本發明的進一步改進，所述光引發劑包括：1-羥基環己基苯基甲酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯甲酰甲酸甲酯或它們的組合。

為了實現上述再一目的，本發明還提供一種根據如上所述的耐磨光學材料在光學膜生產加工中的應用。

作為本發明的進一步改進，所述光學膜為棱鏡片或擴散片。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明的耐磨光學材料具有優良的耐刮擦性能和自我修復性能，應用該耐磨光學材料生產的產品具有較高的生產良率和組裝良率，同時省去了傳統生產工藝中的貼保護膜、以及后續的去保護膜的步驟，節省了生產成本和人力成本。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明的耐磨光學材料的制備方法一具體實施方式的方法流程示意圖。

具體實施方式

本發明公開一種耐磨光學材料，其按質量百分比計包括：聚氨酯丙烯酸酯：30～60%；環氧型丙烯酸酯：≤20%；高折射率單體：10～30%；彈性單體：10～30%；稀釋單體：≤15%；光引發劑：2～7%。

其中，所述高折射率單體包括：乙氧化雙酚A（甲基）丙烯酸酯、鄰苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、改性乙氧基雙酚芴丙烯酸酯或它們的組合。

所述彈性單體按摩爾百分比計包括：至少10%的環氧乙基的(甲基)丙烯酸酯。

所述稀釋單體包括：低粘單官能團丙烯酸酯、乙氧化雙酚A（甲基）丙烯酸酯。

所述光引發劑包括：1-羥基環己基苯基甲酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯甲酰甲酸甲酯或它們的組合。